[發(fā)明專利]半導體裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010110421.1 | 申請日: | 2010-02-03 |
| 公開(公告)號: | CN101794754A | 公開(公告)日: | 2010-08-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 森昌吾;河野榮次;藤敬司 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社豐田自動織機 |
| 主分類號: | H01L23/373 | 分類號: | H01L23/373;H01L23/367 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 魏金霞;潘煒 |
| 地址: | 日本愛知*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導體 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種半導體裝置。
背景技術(shù)
半導體裝置具有絕緣基底,該絕緣基底上安裝有半導體芯片,并且該 絕緣基底連接至散熱板的表面。在這樣的半導體裝置中,由半導體芯片產(chǎn) 生的熱經(jīng)由絕緣基底釋放到散熱板。但是,絕緣基底與散熱板之間的熱膨 脹系數(shù)的差異可能導致散熱板翹曲。日本專利申請公開2000-332170公開 了一種半導體裝置以解決該問題。該公開中的半導體裝置具有絕緣基底, 在該絕緣基底的一個表面上安裝有半導體芯片,并且,在該絕緣基底的另 一表面上通過軟焊連接有銅板。
銅板的與絕緣基底相反的表面通過軟焊連接至輔助片(例如,鉬片), 該輔助片具有與絕緣基底的熱膨脹系數(shù)基本相等的熱膨脹系數(shù)。這種結(jié)構(gòu) 保持了由于熱變化所引起的在銅板的相反表面上所產(chǎn)生的不同應(yīng)力之間 的平衡,從而防止銅板翹曲。
雖然作為輔助片的鉬片可以通過軟焊連接至作為熱沉的銅板,但是不 容易通過鋁硬焊來連接這兩種不同的片材。通過軟焊完成的連接在強度和 可靠性上較低。
本發(fā)明旨在提供一種可靠的半導體裝置,其中,可通過硬焊容易地將 抗翹曲片連接至熱沉,以防止熱沉翹曲。
發(fā)明內(nèi)容
一種半導體裝置,包括:絕緣基底,所述絕緣基底具有陶瓷基底和位 于所述陶瓷基底的相反表面上的金屬涂層;半導體芯片,所述半導體芯片 安裝在所述絕緣基底的一個表面上;熱沉,所述熱沉直接或間接地固定至 所述絕緣基底的另一表面并經(jīng)由所述絕緣基底與所述半導體芯片熱連接; 以及至少一個抗翹曲片,所述至少一個抗翹曲片設(shè)置在所述熱沉的至少一 個表面上。所述抗翹曲片由具有涂層的金屬片制成并且具有介于所述絕緣 基底的熱膨脹系數(shù)與所述熱沉的熱膨脹系數(shù)之間的熱膨脹系數(shù),并且所述 金屬片由作為主要組分的鋼制成。
從結(jié)合附圖以示例的方式圖示本發(fā)明原理的以下描述,本發(fā)明的其它 方面和優(yōu)點將變得清楚。
附圖說明
本發(fā)明的相信具有新穎性的特征具體陳述于所附權(quán)利要求中。通過參 考對附圖及目前優(yōu)選的實施方式的以下描述,可以最好地理解本發(fā)明及其 目的和優(yōu)點,其中:
圖1是依據(jù)本發(fā)明第一實施方式的半導體裝置的縱向剖視圖;
圖2是圖1的半導體裝置的分解圖;
圖3是依據(jù)本發(fā)明第二實施方式的半導體裝置的縱向剖視圖;
圖4是圖3的半導體裝置的分解圖;
圖5是依據(jù)本發(fā)明的替代性實施方式的半導體裝置的縱向剖視圖;
圖6是依據(jù)本發(fā)明的另一替代性實施方式的半導體裝置的縱向剖視 圖;
圖7是依據(jù)本發(fā)明的又一替代性實施方式的半導體裝置的縱向剖視 圖;并且
圖8是依據(jù)本發(fā)明的再一替代性實施方式的半導體裝置的縱向剖視 圖。
具體實施方式
〖第一實施方式〗
以下將參考圖1和圖2來描述本發(fā)明的半導體裝置的第一實施方式。 在該實施方式中,半導體裝置被實施為在車輛中使用的功率模塊。
如圖2所示,作為半導體裝置的功率模塊具有絕緣基底10、半導體芯 片20以及熱沉30。半導體芯片20安裝在絕緣基底10的頂面上,而熱沉 30固定于絕緣基底10的底面。
絕緣基底10包括絕緣的陶瓷基底11以及形成在陶瓷基底11的相反表 面上的第一金屬涂層12和第二金屬涂層13。具體地,第一金屬涂層12涂 覆在陶瓷基底11的安裝半導體芯片20的一個表面(例如,頂面)上,而 第二金屬涂層13涂覆在陶瓷基底11的另一表面(例如,底面)上。陶瓷 基底11由例如氮化鋁(AlN)、氧化鋁(Al2O3)以及氮化硅(Si3N4)制成。 金屬涂層12、13由鋁制成。
陶瓷基底11的熱膨脹系數(shù)為大約3-7ppm/℃(百萬分之一/攝氏度)。 具體地,由氮化鋁(AlN)、氧化鋁(Al2O3)或氮化硅(Si3N4)制成的陶 瓷基底11分別具有大約4ppm/℃、7ppm/℃、或者3ppm/℃的熱膨脹系數(shù)。 因此,涂覆在陶瓷基底11的相反表面上的金屬涂層12、13的厚度小,并 且絕緣基底10的熱膨脹系數(shù)為大約3-7ppm/℃。
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