[發明專利]對基片進行濕法磷擴散和制絨的方法及制絨用的酸溶液

無效

• 申請號: 201010110071.9
• 申請日: 2010-02-11
• 公開（公告）號: CN102157602A
• 公開（公告）日: 2011-08-17
• 發明（設計）人: 倪黨生;劉志偉;孫義榮;王亦天
• 申請（專利權）人: 上海思恩電子技術有限公司
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18;H01L21/306
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司 31002
• 代理人: 鄧琪

1.一種對基片進行濕法磷擴散和制絨的方法，其特征在于，包括如下步驟：

(1)采用磷酸對基片進行濕處理；

(2)將基片送至滾式加熱爐中進行磷擴散，其中加熱爐內的溫度為800-900℃，加熱時間為20-30分鐘；

(3)采用一種酸溶液對所述基片進行制絨，所述酸溶液是氫氟酸、硝酸、磷酸和表面活性劑的混合液；

(4)最后用堿溶液和去離子水清洗基片并烘干。

2.根據權利要求1所述的對基片進行濕法磷擴散和制絨的方法，其特征在于，步驟(1)中所述磷酸的濃度是1％-10％。

3.根據權利要求2所述的對基片進行濕法磷擴散和制絨的方法，其特征在于，步驟(1)中所述磷酸的濃度是4％。

4.根據權利要求3所述的對基片進行濕法磷擴散和制絨的方法，其特征在于，步驟(1)中，通過一個霧化器使所述磷酸霧化后噴淋在基片表面。

5.根據權利要求4所述的對基片進行濕法磷擴散和制絨的方法，其特征在于，所述霧化器包括一個噴霧刀，該噴霧刀具有多個霧狀磷酸射口，噴射口中間設有毛細管，所述磷酸通過毛細管周邊的噴射口空間呈扇形噴射至基片表面。

6.根據權利要求5所述的對基片進行濕法磷擴散和制絨的方法，其特征在于，所述毛細管的截面直徑尺寸小于1mm。

7.根據權利要求4-6任一項所述的對基片進行濕法磷擴散和制絨的方法，其特征在于，步驟(1)中，采用一個自動傳輸機構將所述基片依次送至待處理工位。

8.根據權利要求7所述的對基片進行濕法磷擴散和制絨的方法，其特征在于，所述自動傳輸機構包括在垂直于傳輸方向相差1-3mm的多組錯位滾輪，以及伺服電機和同步傳動傘齒輪，同步傘齒輪帶動多組錯位滾輪同步旋轉。

9.根據權利要求1所述的對基片進行濕法磷擴散和制絨的方法，其特征在于，所述加熱爐內的溫度是800-850℃，加熱時間為10-25分鐘。

10.根據權利要求1所述的對基片進行濕法磷擴散和制絨的方法，其特征在于，步驟(3)中，所述酸溶液中氫氟酸的體積百分含量是0.25％到20％；硝酸的體積百分含量是0.25％到20％；磷酸的體積百分含量是0.25％到20％；以及表面活性劑的體積百分含量是0.001％到10％。

11.根據權利要求10所述的對基片進行濕法磷擴散和制絨的方法，其特征在于，步驟(3)中，所述酸溶液中氫氟酸的體積百分含量是48％；硝酸的體積百分含量是3.99％；磷酸的體積百分含量是48％；以及表面活性劑的體積百分含量是0.01％。

12.根據權利要求1或10或11所述的對基片進行濕法磷擴散和制絨的方法，其特征在于，步驟(3)中，通過霧化器使所述酸溶液霧化，并將所述霧狀的酸溶液噴于基片表面。

13.根據權利要求12所述的對基片進行濕法磷擴散和制絨的方法，其特征在于，步驟(3)中，所述制絨過程為2-5分鐘。

14.根據權利要求1所述的對基片進行濕法磷擴散和制絨的方法，其特征在于，步驟(4)中，所述純水或去離子水噴淋清洗基片過程中加入兆聲能量。

15.一種基片制絨用的酸溶液，其特征在于，所述酸溶液是氫氟酸、硝酸、磷酸和表面活性劑的混合液。

16.根據權利要求15所述的一種基片制絨用的酸溶液，其特征在于，所述酸溶液中氫氟酸的體積百分含量是0.25％到20％；硝酸的體積百分含量是0.25％到20％；磷酸的體積百分含量是0.25％到20％；以及表面活性劑的體積百分含量是0.001％到10％。

17.根據權利要求16所述的一種基片制絨用的酸溶液，其特征在于，所述酸溶液中氫氟酸的體積百分含量是48％；硝酸的體積百分含量是3.99％；磷酸的體積百分含量是48％；以及表面活性劑的體積百分含量是0.01％。