[發明專利]在位式光電測量方法及裝置無效
| 申請號： | 201010109313.2 | 申請日： | 2010-02-08 |
| 公開（公告）號： | CN101769865A | 公開（公告）日： | 2010-07-07 |
| 發明（設計）人： | 馬海波;曹志峰;趙駿;陳英斌;王健 | 申請（專利權）人： | 聚光科技(杭州)股份有限公司 |
| 主分類號： | G01N21/31 | 分類號： | G01N21/31 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 310052浙江*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 在位 光電 測量方法 裝置 | ||
1.在位式光電測量方法，其特征在于：
光發射單元通過機械結構連接光接收單元，光發射單元通過所述機械結構安裝在管道上的第一位置，光接收單元通過所述機械結構安裝在管道上的第二位置，光發射單元和/或光接收單元與所述管道間是非固定連接；
所述光發射單元和光接收單元間形成測量光路，該測量光路處于所述機械結構、管道內；分析管道內被測流體對測量光的影響，得到被測流體的參數；
所述管道發生形變時，管道上的第一位置和第二位置發生相對移動，所述光發射單元和/或光接收單元與管道間有相對移動，光發射單元發出的測量光依然能夠被光接收單元接收。
2.根據權利要求1所述的測量方法，其特征在于：在管道上的第一位置和/或第二位置處設置限位件，所述機械結構穿過并能在限位件內移動。
3.根據權利要求1或2所述的測量方法，其特征在于：所述機械結構包括第一內管。
4.根據權利要求3所述的測量方法，其特征在于：所述第一內管至少包括一個沿管道內氣流方向的投影覆蓋或部分覆蓋管道內的測量光束的擋體。
5.根據權利要求3所述的測量方法，其特征在于：所述機械結構還包括與第一內管連接的第二內管。
6.在位式光電測量裝置，其特征在于：所述裝置包括：
光發射單元；
光接收單元；
光發射單元通過機械結構連接光接收單元，光發射單元通過所述機械結構安裝在管道上的第一位置，光接收單元通過所述機械結構安裝在管道上的第二位置，光發射單元和/或光接收單元與所述管道間是非固定連接，光發射單元和光接收單元間形成測量光路，該測量光路處于所述機械結構、管道內；
分析單元，用于分析管道內流體對測量光的影響，從而得到流體的參數。
7.根據權利要求6所述的測量裝置，其特征在于：在管道上的第一位置和/或第二位置處設置限位件，所述機械結構穿過并能在限位件內移動。
8.根據權利要求6或7所述的測量裝置，其特征在于：所述機械結構包括第一內管。
9.根據權利要求8所述的測量裝置，其特征在于：所述第一內管至少包括一個沿管道內氣流方向的投影覆蓋或部分覆蓋管道內的測量光束的擋體。
10.根據權利要求8所述的測量裝置，其特征在于：所述機械結構還包括與第一內管連接的第二內管。
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