[發明專利]受發光裝置

有效

• 申請號: 201010108075.3
• 申請日: 2010-01-28
• 公開（公告）號: CN101794805A
• 公開（公告）日: 2010-08-04
• 發明（設計）人: 望月理光
• 申請（專利權）人: 精工愛普生株式會社
• 主分類號: H01L27/15
• 分類號: H01L27/15
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 李貴亮

1.一種受發光裝置，

具有半導體層，該半導體層包含第一包層、在所述第一包層的上方形 成的有源層、在所述有源層的上方形成的第二包層，

所述半導體層經由分離槽被電分離為發光區域和受光區域，

所述發光區域的所述有源層中的至少一部分構成增益區域，

所述增益區域從在所述發光區域的所述有源層的第一側面所設置的 第一端面到被設置在所述第一側面的第二端面為止連續，

所述增益區域具有在從所述第一端面到所述第二端面之間使所述增 益區域所產生的光進行反射的反射面，

在所述反射面設有鏡部，

從所述增益區域的所述第一端面延伸的第一部分及從所述增益區域 的所述第二端面延伸的第二部分，以平面視觀察，分別朝向相對于所述第 一側面的垂線傾斜的方向進行設置，

所述增益區域的所述第一部分所產生的光的一部分，在所述反射面反 射并從所述第二端面射出，

所述增益區域的所述第二部分所產生的光的一部分，在所述反射面反 射并從所述第一端面射出，

所述增益區域所產生的光的一部分在所述反射面透過所述鏡部，

在所述半導體層的所述受光區域對透過所述鏡部的光進行接收。

2.如權利要求1所述的受發光裝置，其中，所述鏡部由分布布拉格 反射鏡或光子晶體區域構成。

3.如權利要求2所述的受發光裝置，其中，所述分布布拉格反射鏡 由多個槽構成，

所述多個槽沿所述反射面的垂線方向以規定的間隔配置。

4.如權利要求3所述的受發光裝置，其中，所述多個槽的至少一個 兼作所述分離槽。

5.如權利要求2所述的受發光裝置，其中，所述光子晶體區域由在 所述有源層的面內方向以規定的格子排列被周期性地配置的多個孔構成。

6.如權利要求1所述的受發光裝置，其中，

所述增益區域的所述第一部分，從所述第一端面到所述反射面為止朝 向一方向設置，

所述增益區域的所述第二部分，從所述第二端面到所述反射面為止朝 向與一方向不同的另一方向設置，

在所述反射面上，所述第一部分的端面和所述第二部分的端面重合。

7.如權利要求2～5中任一項所述的受發光裝置，其中，

所述增益區域的所述第一部分，從所述第一端面到所述反射面為止朝 向一方向設置，

所述增益區域的所述第二部分，從所述第二端面到所述反射面為止朝 向與一方向不同的另一方向設置，

在所述反射面上，所述第一部分的端面和所述第二部分的端面重合。

8.如權利要求6所述的受發光裝置，其中，在所述第一部分和所述 第二部分，從所述第一側面以平面視觀察，所述第一側面側的端面與構成 所述發射面的端面不重合。

9.如權利要求7所述的受發光裝置，其中，在所述第一部分和所述 第二部分，從所述第一側面以平面視觀察，所述第一側面側的端面與構成 所述發射面的端面不重合。

10.如權利要求1～6、8中任一項所述的受發光裝置，其中，

以平面視觀察，所述分離槽設置在所述發光區域和所述受光區域之 間，

所述分離槽的底面的位置比所述有源層的底面的位置更靠下。

11.如權利要求1～6、8中任一項所述的受發光裝置，其中，

所述發光區域具有：

與所述發光區域的所述第一包層電連接的第一電極、和

與所述發光區域的所述第二包層電連接的第二電極，

所述受光區域具有：

與所述受光區域的所述第一包層電連接的第三電極、和

與所述受光區域的所述第二包層電連接的第四電極。

12.如權利要求11所述的受發光裝置，其中，所述第一電極和所述 第三電極為共用的電極。