[發明專利]一種提高低輻射鍍膜玻璃生產效率的方法無效
| 申請號: | 201010107683.2 | 申請日: | 2010-02-10 |
| 公開(公告)號: | CN101786800A | 公開(公告)日: | 2010-07-28 |
| 發明(設計)人: | 郭明;王秀麗;孟怡敏 | 申請(專利權)人: | 洛陽新晶潤工程玻璃有限公司 |
| 主分類號: | C03C17/22 | 分類號: | C03C17/22 |
| 代理公司: | 鄭州中民專利代理有限公司 41110 | 代理人: | 郭中民 |
| 地址: | 471003 河南省洛*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 提高 輻射 鍍膜 玻璃 生產 效率 方法 | ||
1.一種提高低輻射鍍膜玻璃生產效率的方法,其特征是:在低輻射鍍膜玻璃生產時,在鍍膜室分別充入氮氣和氬氣,使總氣體流量為0.5-2升/分鐘,其中氮氣占總量的40%-90%,氬氣占總量的10%-60%,硅靶送電,開始濺射,玻璃從硅靶下通過,氮化硅就沉積在玻璃表面,形成氮化硅膜層。
2.根據權利要求1所述的一種提高低輻射鍍膜玻璃生產效率的方法,其特征是:所述鍍膜室分別充入氮氣和氬氣,總氣體流量為0.8-1.8升/分鐘,其中氮氣占總量的50%-80%,氬氣占總量的20%-50%。
3.根據權利要求1所述的一種提高低輻射鍍膜玻璃生產效率的方法,其特征是:所述鍍膜室分別充入氮氣和氬氣,總氣體流量為1.0-1.6升/分鐘,其中氮氣占總量的60%-80%,氬氣占總量的20%-40%。
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