[發明專利]8目凹凸抹布及制作方法無效
| 申請號: | 201010107368.X | 申請日: | 2010-01-30 |
| 公開(公告)號: | CN101766465A | 公開(公告)日: | 2010-07-07 |
| 發明(設計)人: | 龔金瑞 | 申請(專利權)人: | 杭州諾邦無紡股份有限公司 |
| 主分類號: | A47L13/16 | 分類號: | A47L13/16;D06H7/00 |
| 代理公司: | 杭州中平專利事務所有限公司 33202 | 代理人: | 翟中平;侯玉白 |
| 地址: | 311102浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 凹凸 抹布 制作方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種無紡布具有凹孔凸邊和色彩的8目凹凸抹布及制作方法,屬于無紡布制造領域。
背景技術
本申請人申請的公告號為CN1651628、名稱“水刺無紡布打孔模及無紡布制作方法”,該打孔模的模板上有多個突起的凸點,多個脫水小水孔分布在多個突起的凸點間的模板上。棉層經預刺水刺機中預濕輥對棉層預濕、纏結及水刺噴射頭對棉層噴射作用后,棉層在通過由轉鼓打孔模和水刺噴射頭構成的打孔通道時,轉鼓打孔模中的多個突起凸點對預處理后水刺布形成由下往上的穿刺力且在水刺噴射頭由上往下噴射水流作用下使水刺布在打孔過程中又促使其纖維纏結,形成打孔后的水刺無紡布。
客觀存在的是:在形成打孔后的水刺無紡布時,其無紡布的面為凹孔凸邊面,但在后續的染色中,其軋染機往往將染色后的水刺打孔無紡布面的凹凸邊軋染成有色但無凸邊的水刺打孔無紡布。
發明內容
設計目的:避免背景技術存在的不足之處,設計一種無紡布具有凹孔凸邊和色彩的8目凹凸抹布及制作方法。
設計方案:為了實現上述目的。1、提花鼓鼓面上呈凹凸狀,且凸塊的頂端為錐形的設計,是本發明的技術特征之一。這樣做的目的在于:無紡布通過提花鼓時,提花鼓一側的水刺頭噴出的高壓水流形成多個水流噴射至位于提花鼓上的纖維層上,受到壓力作用,位于凹槽上的纖維層向內凹進,使凸塊頂端的針尖穿過纖維層,在無紡布上形成孔,整個工藝流程簡單,制作方便,而且無紡布的孔狀清晰。2、8目凹孔凸邊無紡布置入軋染機上染色后且無需軋碾、烘干成型的設計,是本發明的技術特征之二。這樣做的目的在于:由于無紡布軋染機中的軋染輥的輥面上分布有多個凹槽,該凹槽浸入染料槽的染料中,能夠染料槽內的染料帶入凹槽內,并且在軋染輥轉動過程中隨著軋染輥轉動的角度將其凹槽內的染料倒出且將位于其軋染輥上的無紡布涂色所需的顏色后、無需軋碾、烘干成型即可得到凹孔凸邊的8目無紡布。
技術方案1:8目凹凸抹布,它包括無紡布,所述無紡布上的若干微孔呈8目凹孔凸邊。
技術方案2:8目凹凸抹布的制作方法,它包括提花鼓和水刺頭,纖維層通過提花鼓時,位于提花鼓上的多個水刺頭噴出的高壓水流作用在位于提花鼓上的纖維層上,提花鼓上的凸頭和凹槽使位于提花上的纖維層形成8目凹孔凸邊無紡布,8目凹孔凸邊無紡布置入軋染機的軋染輥上且分布在軋染輥上的凹槽在軋染輥轉動過程中,由于軋染輥凹槽部分浸入在染料槽的染料中且將染料帶入凹槽內、并在轉動過程中將凹槽內的染料倒出且將位于其軋染輥上的無紡布染成所需的顏色后、無需碾軋,烘干成型。
技術方案3:無紡布軋染機,它無紡布軋染機,所述無紡布軋染機中的軋染輥的輥面上分布有多個凹槽。
本發明與背景技術相比,一是所制的水刺打孔無紡布抹布,不僅具有凹孔凸邊結構,而且擦拭時,使擦拭面更加潔凈;二是軋染不軋的設計,確保水刺打孔無紡布抹面結構的不變形。
附圖說明
圖1是8目凹凸抹布的生產流程圖。
圖2是8目凹凸無紡布的側視結構示意圖。
具體實施方式
實施例1:參照附圖2。8目凹凸抹布,它包括無紡布,所述無紡布9上的若干微孔呈8目凹孔10凸邊11。所述凹孔10與凹孔10之間的邊系凸邊11。
實施例2:參照附圖1。無紡布軋染機,它無紡布軋染機,所述無紡布軋染機中的軋染輥7的輥面上分布有多個凹槽6。
實施例3:參照附圖1和2。8目凹凸抹布的制作方法,它包括提花鼓1和水刺頭2,纖維層3通過提花鼓1時,位于提花鼓1上的多個水刺頭2噴出的高壓水流作用在位于提花鼓1上的纖維層3上,提花鼓上的凸頭5和凹槽4使位于提花上的纖維層3形成8目凹孔凸邊無紡布,8目凹孔凸邊無紡布置入軋染機的軋染輥7上且分布在軋染輥上的凹槽6在軋染輥7轉動過程中,由于軋染輥凹槽6部分浸入在染料槽8的染料中且將染料帶入凹槽6內、并在轉動過程中將凹槽6內的染料倒出且將位于其軋染輥上的無紡布染成所需的顏色后、無需碾軋,烘干成型。所述提花鼓1面的凸頭5的頂端呈錐形。所述軋染機的軋梁輥的輥面開有多個凹槽。
需要理解到的是:上述實施例雖然對本發明作了比較詳細的文字描述,但是這些文字描述,只是對本發明設計思路的簡單文字描述,而不是對本發明設計思路的限制,任何不超出本發明設計思路的組合、增加或修改,均落入本發明的保護范圍內。
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