[發明專利]X射線系統和具有劑量面積乘積測量室的瞄準器有效
| 申請號： | 201010105851.4 | 申請日： | 2010-01-26 |
| 公開（公告）號： | CN101791226A | 公開（公告）日： | 2010-08-04 |
| 發明（設計）人： | 英戈·克萊姆 | 申請（專利權）人： | 西門子公司 |
| 主分類號： | A61B6/00 | 分類號： | A61B6/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人： | 時永紅 |
| 地址： | 德國*** | 國省代碼： | 德國;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 射線 系統 具有 劑量 面積 乘積 測量 瞄準 | ||
1.一種X射線系統(100)，具有：
在X射線源(110)和檢測器(130)之間延伸的射程(111)；
設置在該射程(111)中的分光鏡(124)，用于將可見光耦合到該射程(111) 中；以及
劑量面積乘積測量室(122)，其設置在X射線源(110)和分光鏡(124) 之間的射程(111)中，
其中，附加地包括：
設置在射程(111)中靠近焦點的薄片(121)，用于防止不期望釋放的輻 射；
一個或多個濾鏡(123)；
其中，所述劑量面積乘積測量室設置在靠近焦點的薄片(121)和濾鏡(123) 之間的射程(111)中。
2.根據權利要求1所述的X射線系統(100)，包括計算單元，其確定射 程(111)中的設置在劑量面積乘積測量室(122)之后的元件的影響，并且相 應地校正由劑量面積乘積測量室(122)提供的測量結果，其中，所述設置在劑 量面積乘積測量室(122)之后的元件包括所述濾鏡的濾鏡元件(123A，123B， 123C)。
3.一種用于X射線系統(100)的瞄準器(120)，其設置在X射線系統的 射程(111)中并且具有：
分光鏡(124)，用于將可見光耦合到射程(111)中；以及
劑量面積乘積測量室(122)，其設置在瞄準器(120)的輻射入射開口和 分光鏡(124)之間的射程(111)中，
其中，附加地具有：
靠近焦點的薄片(121)，用于防止不期望釋放的輻射；
一個或多個濾鏡(123)；
其中，所述劑量面積乘積測量室(122)設置在靠近焦點的薄片(121)和 濾鏡(123)之間的射程(111)中。
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