[發明專利]單面單層藍光光盤及其制造方法

無效

• 申請號: 201010103743.3
• 申請日: 2010-01-27
• 公開（公告）號: CN101819792A
• 公開（公告）日: 2010-09-01
• 發明（設計）人: 范繼良;楊明生
• 申請（專利權）人: 東莞宏威數碼機械有限公司
• 主分類號: G11B7/26
• 分類號: G11B7/26;G11B7/24
• 代理公司: 廣州三環專利代理有限公司 44202
• 代理人: 張艷美;郝傳鑫

1.一種單面單層藍光光盤，其特征在于，包括：

紙質層，所述紙質層具有相對的第一表面和第二表面；

緩沖層，所述緩沖層形成于所述紙質層的第一表面上；

記錄層，所述記錄層形成于所述緩沖層上；

全反射層，所述全反射層形成于所述記錄層上；

硬保護層，所述硬保護層形成于所述全反射層上；及

防水層，所述防水層形成于所述紙質層的第二表面上。

2.如權利要求1所述的單面單層藍光光盤，其特征在于，所述紙質層的厚度為1.1毫米。

3.如權利要求1所述的單面單層藍光光盤，其特征在于，還包括一加強層，所述加強層形成于所述紙質層的第一表面上。

4.如權利要求3所述的單面單層藍光光盤，其特征在于，所述單面單層藍光光盤的厚度為1.2毫米。

5.如權利要求1所述的單面單層藍光光盤，其特征在于，所述防水層為二氧化硅或氮化硅材質。

6.如權利要求1所述的單面單層藍光光盤，其特征在于，所述緩沖層的厚度介于23微米至25微米之間。

7.如權利要求1所述的單面單層藍光光盤，其特征在于，所述記錄層的厚度介于1微米至2微米之間。

8.一種只讀單面單層藍光光盤的制造方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)提供紙質的且厚度為1.1毫米的基片，所述基片具有相對的第一表面和第二表面；

(2)在所述基片的第一表面上旋涂形成緩沖層；

(3)在所述緩沖層上旋涂形成膠水層；

(4)在所述膠水層上壓膜信息坑道形成記錄層；

(5)在所述記錄層上濺鍍形成全反射層；

(6)在所述全反射層上旋涂形成硬保護層；

(7)在所述基片的第二表面上旋涂防水層形成只讀單面單層藍光光盤。

9.如權利要求8所述的只讀單面單層藍光光盤的制造方法，其特征在于，所述步驟(2)之前還包括在所述基片的第一表面上形成一層加強層的步驟。

10.如權利要求9所述的只讀單面單層藍光光盤的制造方法，其特征在于，所述單面單層藍光光盤的厚度為1.2毫米。

11.如權利要求8所述的只讀單面單層藍光光盤的制造方法，其特征在于，所述防水層為二氧化硅或氮化硅材質。

12.如權利要求8所述的只讀單面單層藍光光盤的制造方法，其特征在于，所述緩沖層的厚度介于23微米至25微米之間。

13.如權利要求8所述的只讀單面單層藍光光盤的制造方法，其特征在于，所述記錄層的厚度介于1微米至2微米之間。

14.一種可錄單面單層藍光光盤的制造方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)提供紙質的且厚度為1.1毫米的基片，所述基片具有相對的第一表面和第二表面；

(2)在所述基片的第一表面上旋涂形成緩沖層；

(3)在所述緩沖層上旋涂形成膠水層；

(4)在所述膠水層上壓膜形成空白的信息坑道并旋涂染料形成記錄層；

(5)在所述記錄層上濺鍍形成全反射層；

(6)在所述全反射層上旋涂形成硬保護層；

(7)在所述基片的第二表面上旋涂防水層形成可錄單面單層藍光光盤。

15.如權利要求14所述的可錄單面單層藍光光盤的制造方法，其特征在于，所述步驟(2)之前還包括在所述基片的第一表面上形成一層加強層的步驟。

16.如權利要求15所述的可錄單面單層藍光光盤的制造方法，其特征在于，所述單面單層藍光光盤的厚度為1.2毫米。

17.如權利要求14所述的可錄單面單層藍光光盤的制造方法，其特征在于，所述防水層為二氧化硅或氮化硅材質。

18.如權利要求14所述的可錄單面單層藍光光盤的制造方法，其特征在于，所述緩沖層的厚度介于23微米至25微米之間。

19.如權利要求14所述的可錄單面單層藍光光盤的制造方法，其特征在于，所述記錄層的厚度介于1微米至2微米之間。