[發(fā)明專利]微納光學元件光學參數(shù)測量方法與裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010103186.5
• 申請日: 2010-02-01
• 公開（公告）號: CN101793596A
• 公開（公告）日: 2010-08-04
• 發(fā)明（設計）人: 李建龍;董春美
• 申請（專利權）人: 四川大學
• 主分類號: G01M11/02
• 分類號: G01M11/02
• 代理公司: 成都科海專利事務有限責任公司 51202
• 代理人: 呂建平

1.一種微納光學元件光學參數(shù)測量方法，其特征在于：使測量光源發(fā)出的單色光通過偏振片調制后入射到待測光學元件表面上，用光敏探測接收器同時探測接收光學元件反射和透射的光信息，將探測接收到的光學信息傳輸給I/D轉換器，I/D轉換器將光信息轉化為數(shù)字信息輸入到計算機，計算機借助優(yōu)化算法將光學元件的光學參數(shù)優(yōu)化，輸出測量結果，從而實現(xiàn)對微納光學元件光學參數(shù)的高精度測量。

2.根據(jù)權利要求1所述的微納光學元件光學參數(shù)測量方法，其特征在于單色光通過偏振片調制后以多角度地入射到待測光學元件表面。

3.根據(jù)權利要求2所述的微納光學元件光學參數(shù)測量方法，其特征在于以波長臨近的多個波長單色光通過偏振片調制后多角度地入射到待測光學元件表面。

4.根據(jù)權利要求3所述的微納光學元件光學參數(shù)測量方法，其特征在于以每個波長的單色光對待測光學元件表面進行不少于2次的重復測量。

5.根據(jù)權利要求1至4之一所述的微納光學元件光學參數(shù)測量方法，其特征在于單色光以3°-20°的入射角入射到待測光學元件的表面。

6.根據(jù)權利要求1至4之一所述的微納光學元件光學參數(shù)測量方法，其特征在于測量用單色光波長為400nm-700nm。

7.實施權利要求1至6之一所述微納光學元件光學參數(shù)測量方法的裝置，其特征在于主要包括測量光源，將光源發(fā)出的單色光予以調制的偏振片，安放待測光學元件的安放器和比較探測器，安放器設置在使待測光學元件位于偏振片與比較探測器光路之間，所述比較探測器主要由光敏探測接收器、I/D轉換器和計算機組成，I/D轉換器將光敏探測接收器探測接收到的經(jīng)由光學元件反射和透射的光信息轉化為數(shù)字信息，輸入計算機進行數(shù)字信息優(yōu)化計算，得出待測光學元件優(yōu)化光學參數(shù)，構成比較探測器的光敏探測接受器至少為兩個，設置在能同時探測接收經(jīng)由光學元件反射和透射光信息的位置。

8.根據(jù)權利要求7所述的微納光學元件光學參數(shù)測量裝置，其特征在于安放待測光學元件的安放器、偏振片和光源三者中至少其一是可轉動的，以使測量單色光以3°-20°的入射角入射到微納光學元件上。

9.根據(jù)權利要求8所述的微納光學元件光學參數(shù)測量裝置，其特征在于測量光源為能發(fā)出連續(xù)光譜單色光的激光光源。

10.根據(jù)權利要求8所述的微納光學元件光學參數(shù)測量裝置，其特征在于測量光源為能發(fā)出波長在400nm-700nm范圍單色光的可調連續(xù)光譜激光光源。