[發明專利]水性精密拋光膜及其制備方法和用途有效
| 申請號: | 201010102617.6 | 申請日: | 2010-01-27 |
| 公開(公告)號: | CN101733688A | 公開(公告)日: | 2010-06-16 |
| 發明(設計)人: | 黃銳;石倩倩 | 申請(專利權)人: | 北京國瑞升科技有限公司 |
| 主分類號: | B24B19/22 | 分類號: | B24B19/22;B24D3/28 |
| 代理公司: | 北京海虹嘉誠知識產權代理有限公司 11129 | 代理人: | 吳小燦 |
| 地址: | 100085 北京市海淀區上*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 水性 精密 拋光 及其 制備 方法 用途 | ||
1.一種水性精密拋光膜,包括基材,所述基材表面具有由微米級磨料與水性膠粘劑和溶 劑混合分散制成的漿料均勻涂布的涂層,所述水性膠粘劑為粉狀、粒狀或塊狀的樹脂溶于水, 固含量為10-90%的膠粘劑;其特征在于,用于MT光纖連接器的研磨拋光,所述樹脂包括改 性淀粉和聚酯的混合物;所述改性淀粉為酯化淀粉。
2.根據權利要求1所述的水性精密拋光膜,其特征在于,所述樹脂還包括聚乙烯醇、羧 甲基纖維素、聚丙烯酰胺、聚氨酯、聚丙烯酸類、聚乙二醇中的一種或幾種混合物。
3.根據權利要求1或2所述的水性精密拋光膜,其特征在于,所述微米級磨料主要為 碳化硅、氧化鋁、氧化鈰,粒徑為0.1~5微米。
4.根據權利要求1或2所述的水性精密拋光膜,其特征在于,所述基材從以下物質中 選擇:各種塑料薄膜或者布或者紙;所述塑料薄膜為聚酯薄膜、聚氨酯薄膜、聚碳酸酯薄 膜、聚酰胺薄膜、聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜或聚氯乙烯薄膜,基材厚度在25-200微米。
5.根據權利要求4所述的水性精密拋光膜,其特征在于,所述的基材為雙向拉伸聚酯 薄膜或聚酰胺薄膜。
6.根據權利要求1或2所述的水性精密拋光膜,其特征在于,所述涂層厚度為1-30 微米。
7.用于如權利要求1-6之一所述的水性精密拋光膜的制備方法,其特征在于包括以下 步驟:
(1)將粉狀、粒狀或塊狀的樹脂溶于水中,制成固含量為10-90%的水性膠粘劑;
(2)將磨料與步驟(1)得到的水性膠粘劑以一定比例混合,并添加溶劑,使用球磨 機、砂磨機或超聲波分散機并控制分散時間,使磨料充分分散均勻,不產生團 聚,然后再加入固化劑,制得漿料;
(3)將步驟(2)制得的漿料用輥式涂布機或噴涂機均勻地涂布于基材表面,經干燥 固化后得到水性精密拋光膜。
8.根據權利要求7所述的水性精密拋光膜的制備方法,其特征在于,所述步驟(1) 中,所述樹脂還包括聚乙烯醇、羧甲基纖維素、聚丙烯酰胺、聚氨酯、聚丙烯酸類、聚乙 二醇中的一種或幾種混合物。
9.根據權利要求7或8所述的水性精密拋光膜的制備方法,其特征在于,所述步驟(2) 中,磨料與水性膠粘劑的混合比例為1:9~9:1;添加的溶劑為水、乙醇、異丙醇、丙二 醇醚類的一種或幾種混合物;加入的固化劑為氨基類或異氰酸酯類固化劑;所述的漿料中 還加入添加劑:偶聯劑、抗靜電劑、潤濕劑、分散劑、消泡劑,根據需要加入合適的量。
10.根據權利要求9所述的水性精密拋光膜的制備方法,其特征在于,所述步驟(3) 中,涂布時通過控制輥速、線速、輥間隙條件,控制涂層厚度;所述的干燥固化指:產品 經涂布機的干燥道干燥后,在40~150℃下放置5~60小時;調節合適的溫度和時間,使固 化反應進行完全。
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