[發(fā)明專利]一種具有穩(wěn)定抗微波功能的貴金屬制劑及其制作工藝和用途有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010042830.2 | 申請日: | 2010-01-19 |
| 公開(公告)號: | CN101781093A | 公開(公告)日: | 2010-07-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉權(quán)輝;史蒂芬;劉權(quán)耀 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市永豐源實(shí)業(yè)有限公司 |
| 主分類號: | C03C17/06 | 分類號: | C03C17/06;C04B41/88 |
| 代理公司: | 深圳市科吉華烽知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 44248 | 代理人: | 胡吉科 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市寶安*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 具有 穩(wěn)定 微波 功能 貴金屬 制劑 及其 制作 工藝 用途 | ||
1.一種具有穩(wěn)定抗微波功能的貴金屬制劑,其特征是,包括:?
貴金屬化合物,占整個貴金屬制劑的25~45wt%;?
助熔劑體系,所述的助熔劑體系為整個貴金屬制劑的20~45wt%;?
有機(jī)載體以及粘結(jié)劑體系,所述的有機(jī)載體以及粘結(jié)劑體系占整個貴金屬制劑體系的25~35wt%;?
其中貴金屬化合物占所述貴金屬制劑烘燒后的貴金屬制劑層所有金屬重量百分?jǐn)?shù)的70~90wt%;?
還包括增稠劑,所述的增稠劑占整個貴金屬制劑體系的1~3%;?
所述的助熔劑體系為有機(jī)銦化合物、有機(jī)鉍化合物、有機(jī)鋁化合物、有機(jī)硅化合物、有機(jī)鋯化合物以及有機(jī)鎳化合物;助熔劑體系中,金屬成份總的含量為鉍10~20wt%,鋁0.5~5wt%,硅0.5~2.5wt%,鋯0.6~2wt%,鎳1~8wt%,銦0.5~5wt%。?
2.如權(quán)利要求1所述的具有穩(wěn)定抗微波功能的貴金屬制劑,其特征是:?
所述的貴金屬化合物為Au、Ag、Pt、Pd、Rh、Au/Pt、Au/Ag、Au/Pd或Au/Rh中的一種或多種的金屬樹脂酸鹽,或者羧化物,或者醇化物;?
所述的助熔劑體系為有機(jī)銦、有機(jī)鉍、有機(jī)鋁、有機(jī)硅、有機(jī)鋯以及有機(jī)鎳的金屬樹脂酸鹽,或者羧化物,或者醇化物。?
3.如權(quán)利要求2所述的具有穩(wěn)定抗微波功能的貴金屬制劑,其特征是:?
所述的貴金屬化合物為Au、Ag、Pt、Rh、Pd中的一種或者多種混合的金屬樹脂酸鹽,或者羧化物,或者醇化物。?
4.一種具有穩(wěn)定抗微波功能的貴金屬制劑的制作工藝,包括如下步驟:?
(A)取貴金屬化合物,整個貴金屬制劑體系的25~45wt%;和助熔劑體系和有機(jī)載體以及粘結(jié)劑體系,所述的助熔劑體系為整個貴金屬制劑的20~45wt%,所述的有機(jī)載體以及粘結(jié)劑體系為,占整個貴金屬制劑體系的25~35wt%;以及增稠劑,所述的增稠劑占整個貴金屬制劑體系的1~3%;所述的助熔劑體系為有機(jī)銦化合物、有機(jī)鉍化合物、有機(jī)鋁化合物、有機(jī)硅化合物、有機(jī)鋯化合物以及有機(jī)鎳化合物;助熔劑體系中,金屬成份總的含量為鉍10~?25wt%,鋁0.5~5wt%,硅0.5~2.5wt%,鋯0.6~2wt%,鎳1~8wt%,銦0.5~5wt%;?
(B)將所選物質(zhì)在90℃至120℃之間均勻攪拌,使之發(fā)生均質(zhì)化和膠質(zhì)化反應(yīng),獲得具有穩(wěn)定抗微波功能的貴金屬制劑。?
5.如權(quán)利要求1~3任一項(xiàng)所述的貴金屬制劑用于硅酸鹽基材表面直接和/或間接絲網(wǎng)印刷,所述的貴金屬制劑經(jīng)過烘燒完成后形成的金屬層,貴金屬化合物的含量為70~90wt%;而非貴金屬化合物的含量則只占到10%~30%。?
6.如權(quán)利要求5所述的貴金屬制劑用于硅酸鹽基材表面直接和/或間接絲網(wǎng)印刷,所述的貴金屬制劑經(jīng)過烘燒完成后,貴金屬化合物的含量為75~85wt%;而非貴金屬化合物的含量則只占到15%~25%。?
7.如權(quán)利要求5所述的貴金屬制劑用于硅酸鹽基材表面直接和/或間接絲網(wǎng)印刷,其特征是:所述的硅酸鹽基材為玻璃、精陶或瓷器。?
8.一種陶瓷移畫印花,其特征是:含有如權(quán)利要求1~3任一所述的貴金屬制劑。?
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