[發(fā)明專利]正性作用的可光成像底部抗反射涂層

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200980161858.3
• 申請(qǐng)日: 2009-11-12
• 公開（公告）號(hào): CN102576193A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: R·R·達(dá)梅爾;S·查克拉帕尼;M·帕德馬納班;宮崎真治;E·W·額;工藤隆范;A·D·迪奧賽斯;F·M·霍利亨
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: AZ電子材料美國公司
• 主分類號(hào): G03F7/09
• 分類號(hào): G03F7/09
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 夏正東

1.能夠在含水堿性顯影劑中顯影的正性底部可光成像抗反射涂料組合物，其中該抗反射涂料組合物包含聚合物，該聚合物包含至少一種具有發(fā)色團(tuán)的重復(fù)單元以及一種具有羥基和/或羧基的重復(fù)單元，結(jié)構(gòu)(7)的乙烯基醚封端交聯(lián)劑，和任選地，光致酸產(chǎn)生劑；其中結(jié)構(gòu)(7)是

其中W選自(C₁-C₃₀)直鏈、支鏈或者環(huán)狀烷基組成部分，取代的或者未被取代的(C₃-C₄₀)脂環(huán)烴組成部分以及取代的或者未被取代的(C₃-C₄₀)環(huán)烷基亞烷基組成部分；R選自C₁-C₁₀直鏈或者支鏈亞烷基以及n≥2。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組合物，其中該發(fā)色團(tuán)化學(xué)鍵連至該聚合物以及選自包含如下的化合物：芳族烴環(huán)、取代的或者未被取代的苯基、取代的或者未被取代的蒽基、取代的或者未被取代的菲基、取代的或者未被取代的萘基、包含選自氧、氮、硫的雜原子的取代的或者未被取代的雜環(huán)芳族環(huán)、及其混合物。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或者2所述的組合物，其中該包含羥基和/或羧基的重復(fù)單元衍生自單體，該單體選自丙烯酸、甲基丙烯酸、乙烯醇、羥基苯乙烯、羥基苯乙烯和包含1，1，1，3，3，3-六氟-2-丙醇的乙烯基單體的共聚物。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的組合物，其中該發(fā)色團(tuán)以及該羥基和/或羧基存在于相同重復(fù)單元中。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的組合物，其中該乙烯基醚封端交聯(lián)劑選自(三(2-乙烯基氧基乙基)-1，3，5-環(huán)己烷三甲酸酯、(三(2-乙烯基氧基乙基)-1，3，5-環(huán)己烷三甲酸酯、三(4-乙烯基氧基丁基)-1，2，4-環(huán)己烷三甲酸酯以及三(4-乙烯基氧基乙基)-1，2，4-環(huán)己烷三甲酸酯。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的組合物，還包含酸或者熱致酸產(chǎn)生劑，其中優(yōu)選該酸或者衍生自該熱致酸產(chǎn)生劑的酸的pKa大于1.0以及其中優(yōu)選該酸或者衍生自該熱致酸產(chǎn)生劑的酸在低于220℃下從該抗反射涂層除去。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的組合物，還包含染料，其優(yōu)選選自單體型染料、聚合物型染料以及單體型和聚合物型染料的混合物。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的組合物，其中該抗反射組合物的k值為0.1-1.0。

9.根據(jù)權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述的組合物，其中該聚合物還包含酸不穩(wěn)定基團(tuán)，其優(yōu)選選自叔丁基、叔戊基、異冰片基、1-烷基環(huán)己基、1-烷基環(huán)戊基、環(huán)己基、2-烷基-2-金剛烷基、2-烷基-2-降冰片基、四氫呋喃基、四氫吡喃基、取代的或者未被取代的甲氧羰基、β-三烷基甲硅烷基烷基。

10.能夠在含水堿性顯影劑中顯影的正性底部可光成像抗反射涂料組合物，其中該抗反射涂料組合物包含聚合物，該聚合物包含至少一種發(fā)色團(tuán)、至少一種酸不穩(wěn)定基團(tuán)和至少一個(gè)羥基和/或一個(gè)羧基，結(jié)構(gòu)(7)的乙烯基醚封端交聯(lián)劑，和任選，光致酸產(chǎn)生劑；其中結(jié)構(gòu)(7)是

其中W選自(C1-C30)直鏈、支鏈或者環(huán)狀烷基組成部分，取代的或者未被取代的(C3-C40)脂環(huán)烴組成部分以及取代的或者未被取代的(C3-C40)環(huán)烷基亞烷基組成部分；R選自C1-C10直鏈或者支鏈亞烷基以及n≥2。

11.形成正像的方法，其包含：

a)在襯底上形成權(quán)利要求1-10中任一項(xiàng)的底部可光成像抗反射涂料組合物的涂層；

b)烘焙該抗反射涂層，

c)在底部涂層之上提供上部光致抗蝕劑層的涂層；

d)使該光致抗蝕劑以及底部涂層對(duì)相同波長的光化輻射成像曝光；

e)后曝光烘焙在該襯底上的該光致抗蝕劑以及底部涂層；以及，

f)用堿性水溶液使該光致抗蝕劑以及底部涂層顯影。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，進(jìn)一步包括在涂布之后以及在烘焙該抗反射涂料組合物之前除去邊緣粒珠的步驟。

13.根據(jù)權(quán)利要求11或者12所述的方法，其中該抗反射涂層在該烘焙步驟之后在涂布該光致抗蝕劑層以前變?yōu)椴蝗苡谟袡C(jī)溶劑以及堿性水溶液中以及在對(duì)光化輻射曝光之后在該光致抗蝕劑以及底部抗反射涂層顯影之前變得可溶于堿性水溶液。