[發明專利]用于發光應用的氘代化合物有效
| 申請號: | 200980161436.6 | 申請日: | 2009-12-21 |
| 公開(公告)號: | CN102510889A | 公開(公告)日: | 2012-06-20 |
| 發明(設計)人: | 旻鴻 | 申請(專利權)人: | E.I.內穆爾杜邦公司 |
| 主分類號: | C09K11/06 | 分類號: | C09K11/06;H01L51/50 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 朱黎明 |
| 地址: | 美國特*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 發光 應用 化合物 | ||
1.二芳基芘化合物,所述化合物具有至少一個D取代基。
2.權利要求1的化合物,所述化合物具有至少50%的氘代度。
3.權利要求1和2中的任一項的化合物,所述化合物具有式I:
其中:
R1至R4相同或不同并且選自H、D、烷基、烷氧基、氧烷基、甲硅烷基、硅氧烷和芳基,前提條件是R1至R4中的至少兩個為芳基;并且
R5至R10相同或不同并且選自H和D;
其中具有至少一個D。
4.權利要求3的化合物,其中R1至R10中的至少一個為D。
5.權利要求3的化合物,所述化合物在芳環上具有至少一個取代基,其中氘代發生在芳環的取代基上。
6.權利要求3的化合物,其中R1至R4中的至少一個為氘代芳基。
7.權利要求3的化合物,其中R1至R4為至少20%氘代的。
8.權利要求3、5和6中的任一項的化合物,其中氘代發生在芘核上。
9.權利要求3的化合物,所述化合物為至少20%氘代的。
10.權利要求3的化合物,其中R1和R4為芳基,并且R2和R3選自H和D。
11.權利要求3的化合物,其中R1和R3為芳基,并且R2和R4選自H和D。
12.權利要求3和7中的任一項的化合物,其中R1、R2和R4為芳基,并且R3選自H和D。
13.權利要求3、6和7中的任一項的化合物,其中R1至R4為芳基。
14.權利要求3、5、6、7、8、9、10、11、12和13中的任一項的化合物,其中R1至R4中的至少一個具有式II
其中:
R11在每次出現時相同或不同并且選自D、烷基、烷氧基、芳基、甲硅烷基和硅氧烷,或相鄰的R11基可被接合形成芳族環;
a在每次出現時相同或不同并且為2-4的整數;
b在每次出現時相同或不同并且為2-5的整數;并且
m在每次出現時相同或不同并且為0至6的整數。
15.化合物,所述化合物選自A1至A32。
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