[發明專利]微光刻投射曝光設備以及測量有關包含在其中的光學表面的參數的方法

有效

• 申請號: 200980160470.1
• 申請日: 2009-07-17
• 公開（公告）號: CN102472974A
• 公開（公告）日: 2012-05-23
• 發明（設計）人: M.帕特拉
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B26/08
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 邱軍

1.一種微光刻投射曝光設備，包括光學表面(46；M6)以及測量裝置(90)，所述測量裝置(90)被構造為在所述光學表面(46；M6)上的多個分開的區域(M_ij)處測量與所述光學表面有關的參數，所述測量裝置(90)包括：

a)照明單元(92)，其被構造為朝向所述光學表面上的所述區域(M_ij)指引單獨測量光束(94)，其中每個測量光束(94)照明與所述測量光束(94)關聯的區域(M_ij)的至少一部分，以及不與所述照明光束(94)關聯的相鄰區域(M_ij)的至少一部分，

b)檢測器單元(96)，其被構造為在每個測量光束(94)與所述光學表面(46；M6)相互作用之后，測量每個測量光束(94)的特性，

c)評估單元(102)，其被構造為：基于所述檢測器單元(96)為

i)與所選擇的區域(M_S)關聯的測量光束(94)、以及

ii)與所選擇的區域(M_S)相鄰的區域(M_ij)關聯的至少一個測量光束(94)

所確定的特性，確定所選擇的區域(M_S)的表面相關參數。

2.如權利要求1所述的設備，其中關于所述光學表面(46；M6)且在多個區域處測量的參數界定所述光學表面的形狀。

3.如權利要求1或2所述的設備，包括表面變形單元(130)，其被構造為使所述光學表面(46；M6)變形。

4.如前述任一項權利要求所述的設備，其中所述光學表面(46；M6)被構造為至少反射所述測量光束的重要部分。

5.如權利要求1所述的設備，其中所述光學表面由反射鏡(M_ij)陣列(46)形成，所述反射鏡(M_ij)被適配為以響應于控制信號而可變化的反射角度將入射光線反射，并且其中每個反射鏡表面關聯至少一個區域。

6.如權利要求5所述的設備，其中所述反射鏡(M_ij)陣列(46)布置在所述設備的照明系統(12)中，并且其中所述反射鏡(M_ij)朝向所述照明系統(12)的系統光瞳表面(70)指引投射光。

7.如權利要求5或6所述的設備，其中每個測量光束(94)在所關聯的區域(M_ij)上產生最大強度的點(120)，并且其中所述最大強度的點(120)相對于所述反射鏡(M_ij)的中心略微且不規則地位移。

8.如前述任一項權利要求所述的設備，其中由所述測量光束(94)在所述光學表面上照明的多個光斑至少部分重疊。

9.如前述任一項權利要求所述的設備，其中所述評估單元(102)被構造為基于所述檢測器單元(96)為所述照明單元(92)產生的所有測量光束(94)確定的特性，確定所選擇的區域(M_S)的表面相關參數。

10.如權利要求9所述的設備，其中所選擇的區域k的表面相關參數是x_k，其由以下線性方程系統確定：

yk=ΣlAklxl]]>

其中y_k是所述檢測器單元為被指引向區域k的測量光束所測量的特性，以及A_kl是實系數。

11.如權利要求10所述的設備，其中所述系數A_kl通過校準確定。