[發(fā)明專利]無電沉積溶液和工藝控制有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200980160458.0 | 申請(qǐng)日： | 2009-07-16 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN102471918A | 公開（公告）日： | 2012-05-23 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 阿爾圖爾·科利奇 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分類號(hào)： | C25D21/12 | 分類號(hào)： | C25D21/12;H01L21/70 |
| 代理公司： | 上海勝康律師事務(wù)所 31263 | 代理人： | 李獻(xiàn)忠 |
| 地址： | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼： | 美國(guó);US |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 沉積 溶液 工藝 控制 | ||
1.在具有銅和電介質(zhì)結(jié)構(gòu)的基板上的包含金屬的覆蓋層無電沉積的方法，所述方法包括：
(i)提供具有用于無電沉積反應(yīng)以便沉積覆蓋層的反應(yīng)物，并具有用于無電沉積反應(yīng)的副產(chǎn)物的無電沉積浴液；
(ii)使用所述無電沉積浴液在基板上沉積所述覆蓋層；以及
(iii)通過添加計(jì)算出的一種或一種以上反應(yīng)物的有效量與計(jì)算出的一種或一種以上副產(chǎn)物的有效量來添補(bǔ)所述無電沉積溶液，使得能用與(i)中的所述無電沉積浴液具有實(shí)質(zhì)相同屬性的無電沉積浴液在附加基板上沉積覆蓋層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述計(jì)算出的一種或一種以上反應(yīng)物的有效量與所述計(jì)算出的一種或一種以上副產(chǎn)物的有效量都是從所述無電沉積浴液的數(shù)學(xué)模型得出。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述計(jì)算出的一種或一種以上反應(yīng)物的有效量與所述計(jì)算出的一種或一種以上副產(chǎn)物的有效量都是從所述無電沉積浴液的物料平衡得出的。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述計(jì)算出的一種或一種以上反應(yīng)物的有效量包含有高于所述無電沉積浴液中所述金屬反應(yīng)物濃度的約3倍到約10倍的金屬反應(yīng)物濃度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述計(jì)算出的一種或一種以上反應(yīng)物的有效量包含有高于所述無電沉積浴液中所述金屬反應(yīng)物濃度的約5倍到約10倍的金屬反應(yīng)物濃度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述計(jì)算出的一種或一種以上反應(yīng)物的有效量包含有高于所述無電沉積浴液中所述金屬反應(yīng)物濃度的約5.1倍的金屬反應(yīng)物濃度。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，通過具有不同組分的至少兩個(gè)儲(chǔ)液器將所述反應(yīng)物添加到所述沉積浴液中。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述無電電鍍?cè)∫喊ㄓ糜阝捀采w層的鈷；所述添補(bǔ)無電電鍍?cè)∫喊◤牡谝粌?chǔ)液器添加鈷到浴液中以及從第二儲(chǔ)液器添加其他反應(yīng)物和所述副產(chǎn)物。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述無電電鍍?cè)∫喊ㄢ挘u，磷和硼；所述添補(bǔ)無電電鍍?cè)∫喊◤牡谝粌?chǔ)液器添加鈷到浴液中，以及從第二儲(chǔ)液器添加鎢，磷，硼和所述副產(chǎn)物。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，(iii)包括使用添補(bǔ)組分，該組分包含有：
對(duì)于金屬而言高于所述無電沉積浴液中鈷濃度約5.1倍的鈷濃度；
適量所述無電沉積反應(yīng)的胺類副產(chǎn)物；以及
適量所述無電沉積反應(yīng)的亞磷酸鹽副產(chǎn)物。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，(iii)包括使用添補(bǔ)組分，
該組分包括：
對(duì)于金屬而言高于所述無電沉積浴液中鈷濃度約5.1倍的鈷濃度；
適量二甲胺；以及
適量亞磷酸鹽。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，(iii)包括使用添補(bǔ)組分，
該組分包含有：
對(duì)于金屬而言高于所述無電沉積浴液中鈷濃度約5.1倍的鈷濃度；
0.038摩爾每升的二甲胺濃度；以及
0.037摩爾每升的亞磷酸鹽濃度。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，(iii)包括使用添補(bǔ)組分，
該組分包含有：
對(duì)于金屬而言高于所述無電沉積浴液中鈷濃度約5.1倍的鈷濃度；
適量次磷酸鹽；
適量鎢；
適量檸檬酸鹽；
適量硼酸鹽；
適量二甲胺；以及
適量亞磷酸鹽。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述浴液帶出為100毫升每基板，以及(iii)包括使用添補(bǔ)組分，所述組分包含有：
對(duì)于金屬而言約0.0612摩爾每升的鈷濃度；
約0.325摩爾每升的次磷酸鹽濃度；
約0.09摩爾每升的鎢濃度；
約0.481摩爾每升的檸檬酸鹽濃度；
約0.287摩爾每升的硼酸鹽濃度；
約0.038摩爾每升的二甲胺濃度；以及
約0.037摩爾每升的亞磷酸鹽濃度。
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