[發(fā)明專利]放射線成像裝置和放射線成像系統(tǒng)、以及它們的控制方法和程序

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200980160036.3
• 申請(qǐng)日: 2009-06-25
• 公開（公告）號(hào): CN102458251A
• 公開（公告）日: 2012-05-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 橫山啟吾;遠(yuǎn)藤忠夫;龜島登志男;秋山正喜;八木朋之;竹中克郎;佐藤翔
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 佳能株式會(huì)社
• 主分類號(hào): A61B6/00
• 分類號(hào): A61B6/00
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 康建忠

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及成像裝置、放射線成像裝置和放射線成像系統(tǒng)。更特別地，本發(fā)明涉及適用于醫(yī)療診斷中的諸如一般放射線照相的靜止圖像放射線照相或諸如熒光放射線照相的運(yùn)動(dòng)圖像放射線照相的放射線成像裝置和放射線成像系統(tǒng)所使用的成像裝置。注意，在本發(fā)明中，除了作為通過放射線衰變發(fā)射的粒子(包含光子)的射束的α射線、β射線、γ射線以外，術(shù)語“放射線”還包括例如X射線、粒子束和宇宙射線等的具有大于等于以上射線的能量的能量的射束。

背景技術(shù)

近年來，作為用于X射線醫(yī)療診斷成像或非破壞性檢查的放射線照相裝置，包括由半導(dǎo)體材料形成的平板檢測(cè)器(以下，簡(jiǎn)寫為FPD)的放射線成像裝置已開始投入實(shí)用。例如在醫(yī)療診斷成像中，這樣的放射線成像裝置被用作用于一般放射線照相那樣的靜止圖像放射線照相或熒光放射線照相那樣的運(yùn)動(dòng)圖像放射線照相的數(shù)字成像裝置。

在這種放射線成像裝置中，如PTL1公開的那樣，已經(jīng)研究了在通過FPD讀取的區(qū)域(視場(chǎng)尺寸)和X射線的照射區(qū)域之間切換的能力。但是，在執(zhí)行切換以增大照射區(qū)域的情況下，在FPD的被照射區(qū)域和未被照射區(qū)域之間，像素的敏感度或暗輸出不同。因此，在獲得的圖像中出現(xiàn)受照射區(qū)域影響的幻影(圖像段差(image?step))，從而導(dǎo)致了圖像質(zhì)量降低的危險(xiǎn)。

在PTL?2中，進(jìn)行執(zhí)行用于校正受照射區(qū)域影響的這種幻影的圖像處理的檢查。具體地，基于包含幻影并通過均勻的照射獲得的數(shù)據(jù)對(duì)于每個(gè)X射線照射條件獲得需要的幻影校正系數(shù)，幻影校正系數(shù)與收集關(guān)于作為照射區(qū)域的正被檢查的部分的數(shù)據(jù)的X射線照射條件和從開始X射線照射起花費(fèi)的時(shí)間對(duì)應(yīng)。因此，通過使用需要的幻影校正系數(shù)校正關(guān)于正被檢查的部分的數(shù)據(jù)，并且產(chǎn)生校正后的圖像數(shù)據(jù)。

引文列表

專利文獻(xiàn)

PTL?1：日本專利公開No.11-128213

PTL?2：日本專利公開No.2008-167846

發(fā)明內(nèi)容

技術(shù)問題

但是，在PTL?2的校正技術(shù)中，由于通過圖像處理執(zhí)行校正，因此，參數(shù)的管理或校正處理復(fù)雜，并且整個(gè)裝置的復(fù)雜性增加。另外，需要諸如事先獲取用于校正的數(shù)據(jù)的復(fù)雜操作，并且，還需要諸如完全數(shù)據(jù)采樣的嚴(yán)格管理以獲得穩(wěn)定的圖像質(zhì)量。并且，可導(dǎo)致上述的幻影的從FPD獲得的圖像信號(hào)中所包含的殘像量不減少，并因此難以在各種狀況下獲得最佳的效果。

對(duì)于問題的解決方案

作為提供如下這樣的成像裝置和系統(tǒng)的深入研究的結(jié)果，該成像裝置和系統(tǒng)能夠在不執(zhí)行復(fù)雜圖像處理的情況下減少可在獲得的圖像中出現(xiàn)的受照射區(qū)域影響的圖像段差的出現(xiàn)并且避免圖像質(zhì)量的明顯降低，要求權(quán)利的本發(fā)明的發(fā)明人實(shí)現(xiàn)了本發(fā)明的以下的方面。

根據(jù)本發(fā)明的成像系統(tǒng)是一種放射線成像系統(tǒng)，所述放射線成像系統(tǒng)包括：成像裝置，所述成像裝置包含：檢測(cè)器，用于執(zhí)行用于輸出與發(fā)射的放射線或光對(duì)應(yīng)的圖像數(shù)據(jù)的放射線照相操作，所述檢測(cè)器具有以矩陣方式布置的多個(gè)像素，像素具有將放射線或光轉(zhuǎn)換成電荷的轉(zhuǎn)換元件，背景光源，用與所述放射線或光不同的背景光照射所述檢測(cè)器；和控制單元，用于控制包含所述放射線照相操作的所述檢測(cè)器的操作和所述背景光源的操作；以及控制計(jì)算機(jī)，控制所述成像裝置，其中，所述放射線照相操作包含第一放射線照相操作和第二放射線照相操作，所述第一放射線照相操作用于輸出與在與包含于所述多個(gè)像素中的一些像素對(duì)應(yīng)的第一照射場(chǎng)中照射所述檢測(cè)器的放射線或光對(duì)應(yīng)的圖像數(shù)據(jù)，所述第二放射線照相操作用于輸出與在比所述第一照射場(chǎng)大的第二照射場(chǎng)中照射所述檢測(cè)器的放射線或光對(duì)應(yīng)的圖像數(shù)據(jù)，其中，所述控制計(jì)算機(jī)基于關(guān)于所述第一放射線照相操作中的放射線的積分劑量的信息確定背景光的積分劑量，并且向所述控制單元應(yīng)用基于確定的背景光的積分劑量的控制信號(hào)，并且，其中，所述控制單元控制所述背景光源的操作，使得根據(jù)從所述第一照射場(chǎng)到所述第二照射場(chǎng)的改變，在所述第一放射線照相操作和所述第二放射線照相操作之間的時(shí)段期間以確定的背景光的積分劑量執(zhí)行背景光的照射