[發(fā)明專(zhuān)利]利用池壁內(nèi)的輻射的流動(dòng)池無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200980159428.8 | 申請(qǐng)日: | 2009-05-20 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102449473A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-05-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 貝諾·穆勒 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 安捷倫科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01N30/74 | 分類(lèi)號(hào): | G01N30/74;G01N21/05;G01N27/447 |
| 代理公司: | 北京東方億思知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11258 | 代理人: | 李劍 |
| 地址: | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 利用 池壁內(nèi) 輻射 流動(dòng) | ||
1.一種用于樣品分離裝置(10)的流動(dòng)池(200),所述樣品分離裝置(10)用于分離流動(dòng)相中的樣品流體的組分,所述流動(dòng)池(200)被構(gòu)造用于檢測(cè)經(jīng)分離的組分,并且包括
管道(202),其具有內(nèi)壁(204)和外壁(206),所述內(nèi)壁(204)限定用于引導(dǎo)所述樣品流體的內(nèi)腔(208),所述管道(202)的一端還具有端面(210);
檢測(cè)單元(212),其被構(gòu)造用于檢測(cè)在電磁輻射(214)傳播通過(guò)在所述內(nèi)腔(208)的一部分中的所述樣品流體、并通過(guò)介于所述內(nèi)壁(204)和所述外壁(206)之間的所述管道(202)的一部分之后離開(kāi)所述端面(210)的所述電磁輻射(214)。
2.根據(jù)前述權(quán)利要求的流動(dòng)池(200),
其中所述檢測(cè)單元(212)被構(gòu)造用于額外檢測(cè)在完全通過(guò)所述內(nèi)腔(208)中的所述樣品流體傳播、而未傳播通過(guò)所述內(nèi)壁(204)和所述外壁(206)之間的所述管道(202)之后的電磁輻射(214)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或上述權(quán)利要求中任意一項(xiàng)的流動(dòng)池(200),
其中所述檢測(cè)單元(212)被構(gòu)造用于檢測(cè)在部分通過(guò)所述內(nèi)腔(208)中的所述樣品流體傳播且部分通過(guò)所述管道(202)傳播之后、并經(jīng)由所述內(nèi)壁(204)和所述外壁(206)之間的所述管道(202)的所述端面(210)離開(kāi)的電磁輻射,所述端面(210)面對(duì)所述檢測(cè)單元212。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或上述權(quán)利要求中任意一項(xiàng)的流動(dòng)池(200),
其中所述檢測(cè)單元(212)被構(gòu)造用于檢測(cè)在部分通過(guò)所述內(nèi)腔(208)中的所述樣品流體傳播且部分通過(guò)所述管道(202)傳播之后、并且經(jīng)由所述內(nèi)壁(204)和所述外壁(206)之間的所述管道(202)的所述端面(210)離開(kāi)的電磁輻射,所述端面(210)被布置在流體入口(222)下游的流體出口(224)處。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或上述權(quán)利要求中任意一項(xiàng)的流動(dòng)池(200),
包括電磁輻射源(216),其被構(gòu)造用于產(chǎn)生所述電磁輻射(214)并且用于將所述電磁輻射(214)耦合到所述內(nèi)腔(208)內(nèi)。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求的流動(dòng)池(200),
其中所述電磁輻射源(216)被設(shè)置成防止所述電磁輻射(214)在所述電磁輻射(214)通過(guò)所述內(nèi)腔(208)的一部分傳播之前耦合到所述管道(202)中。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或上述權(quán)利要求中任意一項(xiàng)的流動(dòng)池(200),
包括輻射耦合器元件(218),具體為光纖段,其被布置用于將來(lái)自所述電磁輻射源(216)的所述電磁輻射(214)耦合到所述內(nèi)腔(208)內(nèi)。
8.根據(jù)前述權(quán)利要求的流動(dòng)池(200),
其中所述輻射耦合器元件(218)在空間上延伸到所述內(nèi)腔(208)中。
9.根據(jù)權(quán)利要求5或上述權(quán)利要求中任意一項(xiàng)的流動(dòng)池(200),
其中所述電磁輻射源(216)被構(gòu)造用于產(chǎn)生光學(xué)光束和紫外光束中的一種。
10.根據(jù)權(quán)利要求5或上述權(quán)利要求中任意一項(xiàng)的流動(dòng)池(200),
其中所述電磁輻射源(216)包括由激光、氘燈、氙燈和鎢燈組成的組中的一種。
11.根據(jù)權(quán)利要求1或上述權(quán)利要求中任意一項(xiàng)的流動(dòng)池(200),
其中所述檢測(cè)單元(212)包括光學(xué)光檢測(cè)器和紫外輻射檢測(cè)器中的一種。
12.如權(quán)利要求1或上述權(quán)利要求中任意一項(xiàng)的流動(dòng)池(200),
其中所述檢測(cè)單元(212)包括單個(gè)檢測(cè)元件、線性排列的多個(gè)檢測(cè)元件和二維排列的多個(gè)檢測(cè)元件中的一種。
13.根據(jù)權(quán)利要求1或上述權(quán)利要求中任意一項(xiàng)的流動(dòng)池(200),
其中所述檢測(cè)單元(212)被布置成在空間上沿著所述端面(210)的至少一部分、具體沿著整個(gè)端面(210)延伸。
14.根據(jù)前述權(quán)利要求的流動(dòng)池(200),
其中所述檢測(cè)單元(212)被布置成沿著所述內(nèi)腔(208)的端面的至少一部分、具體沿著整個(gè)端面延伸。
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