[發明專利]用于在多相流中分離各相的設備和方法

有效

• 申請號: 200980159418.4
• 申請日: 2009-04-20
• 公開（公告）號: CN102438758A
• 公開（公告）日: 2012-05-02
• 發明（設計）人: A·M·于利坎加斯
• 申請（專利權）人: 索爾博水技術公司
• 主分類號: B04C5/00
• 分類號: B04C5/00;B04C5/181
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 蔣旭榮

1.一種用來在多相流束中分離流體相的裝置，其中，在水中懸浮的各相的一個或多個的一部分具有在亞微米和微米范圍中的液滴尺寸，和/或其中，細小的特定有機或無機材料在各相的一個或多個中存在，其特征在于，所述裝置設置在分離箱中的圓錐形出口中，所述分離箱具有用于過程水的切向進口，并且所述裝置包括圓板形渦流破壞器(8)，所述圓板形渦流破壞器的頂部表面布置成用于破壞抵靠渦流定向器(7)的渦流(10)，并且同時布置成在渦流破壞器下方在圓錐形出口中形成低微米和亞微米尺寸的氣泡和/或液滴和/或抽取劑、和/或比流體相的凈重小的顆粒的第二均勻渦流柱(11)。

2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置布置在加壓水力旋流器的、或在浮選旋流器中的、或在浮選箱中的圓錐形出口中，所述加壓水力旋流器、浮選旋流器或浮選箱具有用于過程水的切向進口，并且所述裝置包括圓形渦流破壞板，所述圓形渦流破壞板的頂部表面破壞抵靠渦流定向器的渦流，并且同時在所述渦流破壞器下方在圓錐形出口中，能夠形成低微米和亞微米的氣泡和/或油滴和/或抽取劑和/或比流體相的凈重小的顆粒的第二均勻渦流柱，所述第二均勻渦流柱免受由在渦流破壞器上方的液體流束中的自旋所施加的力，并由此使液體流束跟隨在破壞器下方而加速自旋，從而變化小的渦流柱形成在渦流破壞器下方，在由于低微米和亞微米氣泡和/或油滴和/或抽取劑和/或比流體相的凈重小的顆粒的新的穩定注入而飽和之后，所述變化小的渦流柱將大的聚結氣泡/液滴、聚集顆粒向外釋放到輸出流中。

3.根據權利要求1-2所述的裝置，其中，來自第一渦流中的浮選污染物和氣體的廢物在管中泄出，其中，所述泄出由在分離裝置中的表壓產生，其特征在于，來自所述第一渦流的廢物和氣體的泄出的脈動引起來自在所述渦流破壞器下方的第二飽和渦流柱(11)的聚結的油/氣體/特定材料的大液滴的脈動釋放。

4.根據權利要求1-3所述的裝置，所述裝置用于不同的相的聚結和預分離和/或凈重差的增大，其特征在于，在第二渦流(11)中的飽和氣體與圓錐形出口的內壁之間的環形空間中、之前或之后，輕的吸附材料被注入到過程液體流束中。

5.根據權利要求1-4所述的裝置，其特征在于，幾個箱串聯地連接或并聯地連接。

6.根據權利要求1-5所述的裝置，其特征在于，用于聚結的油/氣體/特定材料的大液滴的新的分離裝置布置在所述第二渦流(11)的出口之后。

7.用于在旋流器/浮選旋流器/浮選箱中、之后、或之前在采油污水流中的石油碳氫化合物和/或氣泡和/或輕顆粒的相分離和聚結的方法，其特征在于，在分離裝置的出口處在連續的流束中產生渦流，所述渦流在渦流破壞器下方，所述渦流不能逆著液體流束經過渦流破壞器的方向而離開，從而由于被拖拽到渦流中的氣體/污染物產生渦流的飽和。

8.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，在旋流器/浮選旋流器/浮選箱中、之后、或之前，采油污水流中的石油碳氫化合物和氣泡和/或輕的顆粒的相分離和聚結，其特征在于，在渦流破壞器下方在圓錐形出口中，產生飽和的第二渦流，其中，分離裝置中的脈動壓力引起來自第二飽和渦流柱的聚結的油/氣體/特定物質的大液滴的脈動輸出，所述第二飽和渦流柱在所述渦流破壞器下方。

9.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，在旋流器/浮選旋流器/浮選箱中、之后、或之前，在采油污水流中的石油碳氫化合物和氣泡和/或輕的顆粒的相分離和聚結，其特征在于，在所述第二渦流中的飽和氣體與圓錐形出口的內壁之間的環形空間中、之前或之后，注入輕的吸附劑。

10.根據權利要求7-9中任一項所述的方法，其特征在于，用于在旋流器/浮選旋流器/浮選箱中、之后、或之前在采油污水流中的石油碳氫化合物和氣泡和/或輕的顆粒的相分離和聚結，其特征在于，在根據本發明的所述裝置之后，串聯地連接有根據本發明的幾個或其它的分離裝置。

11.根據前述權利要求用于液體-液體相和/或液體/氣體相的分離的用途，所述液體-液體相和/或液體/氣體相具有或不具有有機和/或無機的特定材料，其中，所述相或特定材料是在連續液體流束中的各相中的至少一個，或者使得所述相或特定材料比在連續液體流束中的各相中的至少一個輕。