[發明專利]通過鈉沸石類沸石選擇性分離氫氣或氦氣的方法及新型鈉沸石類沸石

有效

• 申請號: 200980156384.3
• 申請日: 2009-09-21
• 公開（公告）號: CN102307645A
• 公開（公告）日: 2012-01-04
• 發明（設計）人: 洪錫鳳
• 申請（專利權）人: 浦項工科大學校產學協力團
• 主分類號: B01D53/02
• 分類號: B01D53/02;C01B39/00
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 謝順星

1.一種分離方法，其特征在于，將含有氫氣或氦氣的混合氣體與鈉沸石類沸石接觸，從而選擇性地分離氫氣或氦氣。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述氫氣或氦氣是被鈉沸石類沸石吸附而分離。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述鈉沸石類沸石是利用含有堿金屬或堿土金屬(M)的供源、3價元素(X)的氧化物、4價元素(Y)的氧化物及水組成的混合物制備得到；

在這里，所述混合物摩爾比組成如下

YO₂/X₂O₃為0.5-100(i)

H₂O/YO₂為1-100(ii)

M₂O/YO₂為0.1-10(iii)。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述X包括鎵或鋁，Y包括硅。

5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述鈉沸石類沸石為鈉沸石類鎵硅酸鹽沸石。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述分離是在-100-800℃下進行。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述吸附在常溫下進行。

8.一種分離氫氣的方法，其特征在于，是將摩爾組成為下述化學式1，并且含有下表11中給出的晶格距離的X射線衍射圖樣為特征的鎵硅酸鹽沸石PST-1沸石與含有氫氣或氦氣的氣體接觸，并分離出氫氣；

1.0K₂O∶1.0Ga₂O₃∶2.3-2.7SiO₂?(1)

表11

?2θ??D?100×I/I₀??12.9-13.0??6.9-6.8??100??19.8-19.9??4.5-4.4??5-10??20.4-20.5??4.4-4.3??1-5??25.9-26.0??3.5-3.4??10-15??29.1-29.2??3.1-3.0??5-10??30.0-30.1??3.00-2.90??55-60??34.2-34.3??2.65-2.60??1-5??35.3-35.4??2.55-2.50??5-10??35.4-35.5??2.55-2.50??10-15??37.0-37.1??2.45-2.40??1-5??44.4-44.5??2.05-2.00??1-5

在這里θ、d、I分別表示布拉格(Bragg)角，晶格距離以及X射線衍射峰的強度。