[發(fā)明專利]形成溶射層的高耐腐蝕耐磨損部件以及形成該高耐腐蝕耐磨損部件的溶射層形成用粉末

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200980155901.5
• 申請日: 2009-03-10
• 公開（公告）號: CN102333902A
• 公開（公告）日: 2012-01-25
• 發(fā)明（設計）人: 巖永健吾;山崎裕司;平田浩郎
• 申請（專利權）人: 東洋鋼鈑株式會社
• 主分類號: C23C4/06
• 分類號: C23C4/06;C23C4/10
• 代理公司: 北京遠大卓悅知識產權代理事務所(普通合伙) 11369
• 代理人: 史霞

1.一種形成溶射層的高耐腐蝕耐磨損部件，其特征在于：通過在金屬母材上溶射金屬粉末，在該金屬母材表面上形成溶射層，

該溶射層是正方晶Mo₂(Ni、Cr)B₂類的復合硼化物金屬陶瓷。

2.一種形成溶射層的高耐腐蝕耐磨損部件，其特征在于：通過在金屬母材上溶射金屬粉末，在該金屬母材表面上形成溶射層，

該溶射層是正方晶Mo₂(Ni、Cr、V)B₂類的復合硼化物金屬陶瓷。

3.一種溶射層形成用粉末，其特征在于，包含正方晶Mo₂(Ni、Cr)B₂類復合硼化物金屬陶瓷，

其中，B：4.0～6.5質量％、Mo：39.0～64.0質量％、Cr：7.5～20.0質量％、以及剩余：大于等于5質量％的Ni以及不可避免的元素。

4.一種溶射層形成用粉末，其特征在于，包含正方晶Mo₂(Ni、Cr、V)B₂類復合硼化物金屬陶瓷，

其中，B：4.0～6.5質量％、Mo：39.0～64.0質量％、Cr：7.5～20.0質量％、V：0.1～10.0質量％、以及剩余：大于等于5質量％的Ni以及不可避免的元素。

5.一種溶射層形成用粉末，其特征在于，其包含正方晶Mo₂(Ni、Cr)B₂與哈斯特合金C粉末的混合粉末，上述正方晶Mo₂(Ni、Cr)B₂包含B：7～9質量％、Mo：60～80質量％、Cr：7.5～20.0質量％、以及剩余：大于等于5質量％的Ni以及不可避免的元素；

上述正方晶Mo₂(Ni、Cr)B₂比例為35～95質量％。

6.一種溶射層形成用粉末，其特征在于，其包含正方晶Mo₂(Ni、Cr、V)B₂與哈斯特合金C粉末的混合粉末，上述正方晶Mo₂(Ni、Cr、V)B₂包含B：7～9質量％、Mo：60～80質量％、Cr：7.5～20.0質量％、V：0.1～10.0質量％、以及剩余：大于等于5質量％的Ni以及不可避免的元素；

上述正方晶Mo₂(Ni、Cr、V)B₂比例為35～95質量％。