[發(fā)明專利]陰圖制版可成像元件的疊層無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200980151874.4 | 申請日: | 2009-12-07 |
| 公開(公告)號: | CN102257433A | 公開(公告)日: | 2011-11-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | K·B·雷;J·L·穆利岡;S·A·貝克利 | 申請(專利權(quán))人: | 伊斯曼柯達(dá)公司 |
| 主分類號: | G03F7/09 | 分類號: | G03F7/09;B41C1/10;B41N1/08 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 張萍;李炳愛 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 制版 成像 元件 | ||
1.疊層,其包含多個(gè)陰圖制版平版印版前驅(qū)體,其中每個(gè)前驅(qū)體包含其上具有單一可成像層和最外外涂層的含鋁襯底,所述最外外涂層具有等于或小于1g/m2的涂布干重,
其中所述襯底的非成像背面不含聚合物涂層并且在縱向和寬度方向均具有大于0.15μm的平均表面粗糙度(Ra),并且其中每個(gè)下面的前驅(qū)體的可成像面被布置為與其上面的前驅(qū)體的含鋁襯底直接接觸,而在所述前驅(qū)體之間不使用襯紙。
2.權(quán)利要求1所述的疊層,其包含至少100個(gè)陰圖制版平版印版前驅(qū)體。
3.權(quán)利要求1所述的疊層,其中所述最外外涂層的涂布干重等于或小于0.8g/m2。
4.權(quán)利要求1所述的疊層,其中所述最外外涂層的涂布干重等于或小于0.5g/m2。
5.權(quán)利要求1所述的疊層,其中基于外涂層干重計(jì),所述最外外涂層包含至少50wt%的量的一種或更多種親水聚合物。
6.權(quán)利要求1所述的疊層,其中基于外涂層干重計(jì),所述最外外涂層包含至少90wt%的量的一種或更多種親水聚合物。
7.權(quán)利要求1所述的疊層,其中所述最外外涂層包含聚乙烯醇作為其主要的聚合物粘合劑。
8.權(quán)利要求1所述的疊層,其中所述平版印版前驅(qū)體中的每一個(gè)對250至450nm的成像輻射敏感。
9.權(quán)利要求1所述的疊層,其中所述平版印版前驅(qū)體中的每一個(gè)對700至1400nm的成像輻射敏感。
10.權(quán)利要求1所述的疊層,其中所述平版印版前驅(qū)體中的每一個(gè)是可在印刷機(jī)上顯影的。
11.權(quán)利要求1所述的疊層,其中所述最外外涂層包含平均直徑為1至6μm的顆粒。
12.權(quán)利要求11所述的疊層,其中所述最外外涂層顆粒包含二氧化硅。
13.權(quán)利要求1所述的疊層,其中所述單一可成像層包含:
可自由基聚合組分,
引發(fā)劑組合物,其一經(jīng)暴露于成像紅外輻射就能夠產(chǎn)生足以引發(fā)可自由基聚合基團(tuán)的聚合的自由基,
聚合物粘合劑,和
吸收輻射的化合物。
14.權(quán)利要求13所述的疊層,其中所述吸收輻射的化合物是吸收紅外輻射的染料。
15.權(quán)利要求13所述的疊層,其中所述聚合物粘合劑具有與側(cè)掛的聚環(huán)氧烷側(cè)鏈和/或氰基連接的主鏈,并且任選以離散顆粒的形式存在。
16.權(quán)利要求1所述的疊層,其包含20至800個(gè)所述前驅(qū)體,其中每個(gè)前驅(qū)體的所述單一可成像層包含:
可自由基聚合組分,
引發(fā)劑組合物,其一經(jīng)暴露于成像紅外輻射就能夠產(chǎn)生足以引發(fā)可自由基聚合基團(tuán)的聚合的自由基,
聚合物粘合劑,和
吸收紅外輻射的染料,和
外涂層,其具有小于0.8g/m2的涂布干重,并且其包含聚乙烯醇。
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