[發明專利]通過靜電除塵的鉑凝結減少有效
| 申請號: | 200980151848.1 | 申請日: | 2009-11-10 |
| 公開(公告)號: | CN102256906A | 公開(公告)日: | 2011-11-23 |
| 發明(設計)人: | D·M·萊恩曼;M·C·莫斯;S·R·莫西爾 | 申請(專利權)人: | 康寧股份有限公司 |
| 主分類號: | C03B5/16 | 分類號: | C03B5/16;C03B5/18 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 錢慰民 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 通過 靜電 除塵 凝結 減少 | ||
1.一種制造玻璃的工藝,包括:
(A)在耐熱器具中處理玻璃熔體,其中所述玻璃熔體暴露于包括空中微粒的氣氛中;以及
(B)通過在所述氣氛中施加電場來減少所述微粒,在產生電場的至少一個電極的表面上收集微粒,其中(i)所述電場至少部分地由第一電極和第二電極之間的電位產生;以及(ii)所述電場在所述玻璃熔體中基本上不提供電位梯度。
2.如權利要求1所述的工藝,其特征在于,所述耐熱器具包括暴露于所述氣氛的耐熱金屬,并且所述氣氛是氧化性的,使得耐熱金屬和氣氛之間的反應產生至少部分空中微粒。
3.如權利要求2所述的工藝,其特征在于,所述耐熱金屬器具包括鉑或其合金。
4.如上述權利要求中的任一項所述的工藝,其特征在于,所述電場在所述氣氛中產生電暈。
5.如上述權利要求中的任一項所述的工藝,其特征在于,與所述玻璃熔體直接接觸的所有金屬基本上經受相同電位。
6.如權利要求5所述的工藝,其特征在于:
在步驟(A),耐熱器具包括玻璃熔體攪拌裝置,所述玻璃熔體攪拌裝置包括(a)由包含耐熱金屬的腔室壁限定的攪拌腔室以及(b)包含耐熱金屬的攪拌器軸。
7.如權利要求6所述的工藝,其特征在于:
在步驟(B),電場至少部分地由在(i)一起用作第一電極的攪拌腔室和攪拌器軸和(ii)位于所述玻璃熔體的表面上的第二電極之間的電位梯度產生。
8.如上述權利要求中的任一項所述的工藝,其特征在于:
在步驟(B),將用于接納微粒的屏障設置在第二電極和所述玻璃熔體的表面之間。
9.如上述權利要求中的任一項所述的工藝,其特征在于:
在步驟(B),第一電極和第二電極之間的電場由至少100V的電位梯度實現。
10.如權利要求7-9中的任一項所述的工藝,其特征在于:
在步驟(B),所述第二電極具有比所述第一電極高的電位。
11.如上述權利要求中的任一項所述的工藝,其特征在于:
在步驟(A),玻璃熔體適于制造用于LCD顯示器的玻璃基板。
12.如權利要求6所述的工藝,其特征在于,所述攪拌腔室的壁的至少一部分以及所述攪拌軸的至少一部分暴露于含氧氣氛中。
13.一種玻璃熔體處理裝置,包括適于在升高溫度下操作的耐熱器具,其中所述玻璃熔體暴露于包括空中微粒的氣氛中,所述裝置包括靜電除塵器,所述靜電除塵器包括:(i)第一電極;以及(ii)用于收集所述微粒的第二電極。
14.如權利要求13所述的玻璃熔體處理裝置,其特征在于,所述耐熱器具包括暴露于所述氣氛的耐熱金屬。
15.如權利要求14所述的裝置,其特征在于,所述耐熱器具的至少一部分用作所述靜電除塵器的第一電極。
16.如權利要求14或15所述的裝置,其特征在于,將相等的電位施加到暴露于玻璃熔體的耐熱金屬的表面。
17.如權利要求14-16中的任一項所述的裝置,其特征在于,包括玻璃熔體攪拌裝置,所述玻璃熔體攪拌裝置包括攪拌腔室和攪拌軸。
18.如權利要求13-17中的任一項所述的裝置,其特征在于,包括在所述第二電極和在操作期間由所述裝置處理的玻璃熔體的表面之間的屏障,其中所述屏障適于攔截從第二電極落下的微粒。
19.如權利要求13-18中的任一項所述的裝置,其特征在于,所述第二電極具有比第一電極高的電位。
20.如權利要求19所述的裝置,其特征在于,還包括具有與第一電極的電位不同的電位的第三電極。
21.如權利要求20所述的裝置,其特征在于,所述第三電極的電位與所述第二電極的電位基本相同。
22.如權利要求20所述的裝置,其特征在于,所述第三電極的電位高于所述第一電極的電位。
23.如上述權利要求中的任一項所述的裝置,其特征在于,至少一個電極能夠產生電暈。
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