[發明專利]制造和加工過程中確定板位置的方法和裝置

無效

• 申請號: 200980151569.5
• 申請日: 2009-12-14
• 公開（公告）號: CN102246000A
• 公開（公告）日: 2011-11-16
• 發明（設計）人: X·陳;A·劉;周乃越
• 申請（專利權）人: 康寧股份有限公司
• 主分類號: G01B11/03
• 分類號: G01B11/03
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 錢慰民

1.一種確定材料板選定區域相對于基準平面的位置的方法，包括：

在材料板的選定區域投射第一入射光束，以使所述第一入射光束在第一位置并以第一角度碰撞選定區域，由此產生第一反射光束；

在材料板的選定區域投射第二入射光束，以使第二入射光束在第二位置并以第二角度碰撞選定區域，由此產生第二反射光束，所述第二位置和第二角度分別不同于第一位置和第一角度；

在基準平面攔截第一反射光束和第二反射光束；

接收與攔截反射光束的位置和投射入射光束的角度相關的信息；以及

將所述信息與所述選定區域相對于基準平面的位置相關聯。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，還包括使用所述信息來控制無彎曲板分離工藝。

3.如權利要求1所述的方法，其特征在于，將所述信息關聯的步驟包括從所述信息確定選定區域和基準平面之間的距離以及選定區域相對于基準平面的方位。

4.如權利要求1所述的方法，其特征在于，將所述信息關聯的步驟包括對P_n＝b(2θ_n+2θ₀)求解，其中P_n是在基準平面上攔截反射光束的位置，θ_n是入射光束碰撞所述選定區域的角度，b是從選定區域至基準平面的距離，而θ₀是選定區域相對于基準平面的方位。

5.如權利要求4所述的方法，其特征在于，θ_n和θ₀中的每一個的絕對值小于約12°。

6.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一入射光束和所述第二入射光束是具有至少10的縱橫比的狹長光束，并且投射所述第一入射光束和第二入射光束包括分別使所述第一入射光束的長軸和所述第二入射光束的長軸沿基本平行于材料板平移方向的方向對準。

7.如權利要求1所述的方法，其特征在于，還包括產生光束并將所述光束分束成第一入射光束和第二入射光束。

8.如權利要求1所述的方法，其特征在于，還包括產生光束并在掃描光學反射鏡處定向所述光束以產生第一入射光束和第二入射光束。

9.如權利要求8所述的方法，其特征在于，所述掃描光學反射鏡與所述選定區域呈相對關系定位，并沿所述材料板的平移方向轉動。

10.如權利要求1所述的方法，其特征在于，還包括用第一光源產生第一入射光束以及用第二光源產生第二入射光束。

11.如權利要求1所述的方法，其特征在于，攔截所述第一反射光束和所述第二反射光束包括用線性陣列檢測器來攔截所述第一反射光束。

12.如權利要求1所述的方法，其特征在于，攔截所述第一反射光束和所述第二反射光束包括有選擇地平移光接收器以攔截所述第一反射光束和所述第二反射光束。

13.如權利要求1所述的方法，其特征在于，攔截所述第一反射光束和所述第二反射光束包括在投射第二入射光束前攔截所述第一反射光束。

14.一種確定材料板選定區域相對于基準平面的位置的裝置，包括：

光源，用于分別以第一角度和第二角度在材料板的選定區域投射第一入射光束和第二入射光束，所述第一角度不同于第二角度；

光接收器，用來攔截來自材料板的選定區域的第一反射光束和第二反射光束，所述第一反射光束和第二反射光束沿不同光路行進；

數據采集器，用來采集關于攔截反射光束的位置和投射入射光束的角度的信息；以及

數據分析器，用來從采集的數據確定所述選定區域相對于基準平面的位置。

15.如權利要求14所述的裝置，其特征在于，所述光源包括工作在從400nm至1700nm范圍內的波長下的光發生器。

16.如權利要求15所述的裝置，其特征在于，所述光源還包括定位成接收來自所述光發生器的光束的掃描光學反射鏡。

17.如權利要求15所述的裝置，其特征在于，所述光源還包括光束整形器，用來將來自所述光發生器的光束整形為狹長的光束。