[發(fā)明專利]蠟的高剪切氧化有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200980150903.5 | 申請日: | 2009-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN102256696A | 公開(公告)日: | 2011-11-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 阿巴斯·哈桑;哈沙德·巴特;阿齊茲·哈桑;格雷戈里·G·伯辛格 | 申請(專利權(quán))人: | HRD有限公司 |
| 主分類號: | B01J19/18 | 分類號: | B01J19/18;B01F3/04;C07C27/10;C07B33/00;C08F8/06 |
| 代理公司: | 中原信達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219 | 代理人: | 劉慧;楊青 |
| 地址: | 美國德*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 剪切 氧化 | ||
1.用于高剪切氧化的系統(tǒng),其包含:
具有至少一個入口和至少一個出口的剪切裝置,和
具有至少一個入口和至少一個出口的混合容器,
其中所述剪切裝置的入口與所述混合容器的出口流體連通。
2.權(quán)利要求1的系統(tǒng),其中所述剪切裝置和所述混合容器形成流體連通的回路。
3.權(quán)利要求1的系統(tǒng),其進(jìn)一步包含泵,以控制流體通過所述剪切裝置的流速和停留時間。
4.權(quán)利要求1的系統(tǒng),其進(jìn)一步包含溫度與壓力控制單元,以調(diào)節(jié)所述剪切裝置的溫度和壓力。
5.權(quán)利要求1的系統(tǒng),其進(jìn)一步包含至少一個噴射器,使氣體分散到所述混合容器中。
6.系統(tǒng),其包含
具有至少一個入口和至少一個出口的剪切裝置;
具有至少一個與底物源流體連接的入口、和至少一個出口的底物管道;
具有至少一個與氧化劑源流體連接的入口、和至少一個出口的氧化劑管道;和
具有至少一個與蒸汽源流體連接的入口、和至少一個出口的蒸汽管道;
其中底物管道的至少一個出口,氧化劑管道的至少一個出口,以及蒸汽管道的至少一個出口與剪切裝置的入口流體連接。
7.權(quán)利要求6的系統(tǒng),其進(jìn)一步包含與剪切裝置的出口流體連接的閃蒸系統(tǒng)。
8.權(quán)利要求6的系統(tǒng),其進(jìn)一步包含至少一個熱交換器,以控制底物的溫度。
9.權(quán)利要求6的系統(tǒng),其進(jìn)一步包含氣體注入系統(tǒng),以控制氧化劑管道中的氧化劑的流速。
10.權(quán)利要求6的系統(tǒng),其進(jìn)一步包含蒸汽注入系統(tǒng),以控制蒸汽管道中的蒸汽的流速。
11.權(quán)利要求6的系統(tǒng),其進(jìn)一步包含至少一個與剪切裝置的出口流體連接的貯存容器。
12.高剪切氧化的方法,該方法包括:
將氧化劑與底物混合,形成底物-氧化劑混合物;和
向所述底物-氧化劑混合物施加剪切以形成產(chǎn)物。
13.權(quán)利要求12的方法,其中所述底物和所述氧化劑在本體有機(jī)或無機(jī)液體介質(zhì)中混合。
14.權(quán)利要求12的方法,其中所述氧化劑選自空氣、氧氣、臭氧、過氧化物、有機(jī)過氧化物、鹵素、含氧氣體和含鹵素氣體。
15.權(quán)利要求12的方法,其中將氧化劑與底物混合包括將所述氧化劑分散到所述底物或液體介質(zhì)中。
16.權(quán)利要求12的方法,其進(jìn)一步包括在混合時控制底物與氧化劑的比率。
17.權(quán)利要求12的方法,其中所述底物包括高粘度原油、聚乙烯或聚乙烯蠟。
18.權(quán)利要求12的方法,其中所述產(chǎn)物選自環(huán)氧乙烷、環(huán)氧丙烷、對苯二甲酸、苯酚、丙烯腈、馬來酸酐、鄰苯二甲酸酐、硝酸、己內(nèi)酰胺、氧化聚乙烯、氧化聚丙烯、氧化聚乙烯共聚物和氧化聚丙烯共聚物。
19.權(quán)利要求12的方法,其進(jìn)一步包括將蒸汽與所述氧化劑和所述底物混合。
20.權(quán)利要求19的方法,其中將底物、氧化劑與蒸汽混合和施加剪切同時在剪切裝置中發(fā)生。
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