[發明專利]使用分段式反射鏡的高強度圖像投影儀

有效

• 申請號: 200980150160.1
• 申請日: 2009-11-04
• 公開（公告）號: CN102265216A
• 公開（公告）日: 2011-11-30
• 發明（設計）人: O·R·安德森;K·E·奧爾森;S·雷福賽克
• 申請（專利權）人: 普羅杰克遜迪賽恩聯合股份有限公司
• 主分類號: G03B21/00
• 分類號: G03B21/00
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 錢慰民

1.一種圖像投影系統，包括：

各自提供電磁(EM)輻射的兩個源，其中所述源沿相反方向提供EM輻射；

第一反射表面，所述第一反射表面反射來自第一光源的EM輻射；

第二反射表面，所述第二反射表面反射來自第二光源的EM輻射；

成像器，所述成像器具有接收反射的EM輻射的光瞳并使用接收的EM輻射來創建一圖像，其中第一半部的光瞳接收來自所述第一源反射的EM輻射，而第二半部的光瞳接收來自所述第二源的反射的EM輻射，

其中每個反射表面包括沿至少一個方向平坦的多個區，其中每個反射表面的第一區相對于與光瞳垂直的一直線的夾角比每個反射表面的第二區的更小，其中每個第一區比每個第二區更接近光瞳。

2.如權利要求1所述的圖像投影系統，其特征在于，所述區在垂直于光瞳的平面內沿一個方向是平坦的。

3.如權利要求1所述的圖像投影系統，其特征在于，每個源包括：

將EM輻射傳入聚集波導的兩個燈；以及

將EM輻射匯聚成平行光線的一個或多個中繼透鏡。

4.如權利要求3所述的圖像投影系統，其特征在于，對于每個源：

第一燈將EM輻射送至第一波導；并且

第二燈將EM輻射送至第二波導，其中來自所述第一波導和第二波導的EM輻射被送至聚集波導。

5.如權利要求1所述的圖像投影系統，其特征在于，對于每個反射表面：

相應區和垂直于光瞳的直線間的夾角隨著區和光瞳間的距離減小而連續減小。

6.如權利要求1所述的圖像投影系統，其特征在于，對于每個反射表面：

最接近光瞳的區相對于與光瞳垂直的直線具有一夾角，其中所述夾角具有45°的值。

7.如權利要求1所述的圖像投影系統，其特征在于，對于每個反射表面：

使垂直于光瞳的中央平面之上的區傾斜以使相應區和中央平面之間的夾角小于90°，其中高于中央平面的相應區反射具有沿向下方向的分量的EM輻射。

8.如權利要求1所述的圖像投影系統，其特征在于，每個反射表面還包括：

多個階梯，每個階梯在相繼平坦區之間沿一方向朝向光瞳。

9.如權利要求8所述的圖像投影系統，其特征在于，所述階梯具有一表面，其取向在從垂直于接收的EM輻射至平行于EM輻射且所述表面背離光瞳的90°范圍內。

10.如權利要求8所述的圖像投影系統，其特征在于，所述階梯不是反射性的。

11.如權利要求8所述的圖像投影系統，其特征在于，所述階梯位于沿至少一個方向具有最小EM輻射強度的位置。

12.如權利要求1所述的圖像投影系統，其特征在于，所述光瞳是將接收的EM輻射映射到圖像源上的透鏡。

13.如權利要求1所述的圖像投影系統，其特征在于，還包括：

接收圖像并將所述圖像投影到外表面的投影透鏡。

14.一種形成圖像的方法，所述方法包括：

利用兩個源提供電磁(EM)輻射，其中所述源沿相反方向提供EM輻射；

利用第一反射表面反射來自所述第一源的EM輻射；

利用第二反射表面反射來自所述第二源的EM輻射；

在所述成像器的第一半部光瞳處接收從所述第一反射表面反射的EM輻射；

在第二半部光瞳處接收從所述第二反射表面反射的EM輻射；以及

通過使用接收的EM輻射借助所述成像器形成圖像，

其中每個反射表面包括多個區，這些區沿至少一個方向是平坦的，并且反射來自所述源的EM輻射包括：

從相對于與光瞳垂直的直線具有第一夾角的每個反射表面的第一區反射EM輻射；

從相對于與光瞳垂直的直線具有第二夾角的每個反射表面的第二區反射EM輻射，其中每個第一區比每個第二區更接近光瞳，并且所述第一夾角小于所述第二夾角。

15.如權利要求14所述的方法，其特征在于，從每個源提供EM輻射包括：

將來自兩個燈的EM輻射送入聚集波導；以及

使用一個或多個中繼透鏡將EM輻射聚焦成平行光線。