[發明專利]具有改進的空間模式的高功率VCSEL

有效

• 申請號: 200980149700.4
• 申請日: 2009-12-01
• 公開（公告）號: CN102246367A
• 公開（公告）日: 2011-11-16
• 發明（設計）人: J.S.科爾布;M.米勒;S.溫特施泰因;U.恩斯特
• 申請（專利權）人: 皇家飛利浦電子股份有限公司
• 主分類號: H01S5/065
• 分類號: H01S5/065;H01S5/183;H01S5/42;B41J2/455;G06K15/12
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 景軍平;劉鵬

1.一種VCSEL裝置，其包括：

光學增益介質(8)，其布置于第一DBR(9)與第二DBR(7)之間，

所述第一、第二DBR(7,9)形成激光腔且被設計成允許所述激光腔中的自容式激光發射，且

所述第二DBR(7)對于在所述激光腔中諧振的激光輻射是部分透明的；以及，

光學元件，其布置于所述激光腔的光軸上所述激光腔外的所述第二DBR(7)的側部上，

所述光學元件具有朝向所述第二DBR(7)的凹表面(5)且凹表面(5)被設計成將透過所述第二DBR(7)發射的激光輻射的一部分反射回到所述激光腔內，

????其中所述凹表面(5)的曲率半徑R與所述凹表面(5)和所述增益介質(8)之間的距離d的比值R/d在1與2之間的范圍內。

2.根據權利要求1所述的VCSEL裝置，

其中，朝向所述第二DBR(7)的所述凹表面(5)對于所述激光輻射具有20%與30%之間的反射率。

3.根據權利要求1或2所述的VCSEL裝置，

其中，朝向所述第二DBR(7)的所述凹表面(5)是微透鏡(4)的內表面。

4.根據權利要求3所述的VCSEL裝置，

其中，所述微透鏡(4)是平凸透鏡。

5.根據權利要求1或2所述的VCSEL裝置，

其中，朝向所述第二DBR(7)的所述凹表面(5)是安裝在所述第二DBR(7)上的光學元件的內表面。

6.根據權利要求1所述的VCSEL裝置，

其中，所述凹表面(5)與所述增益介質(8)之間的所述距離≥1mm。

7.一種VCSEL陣列，其包括在共同基板(11)上的若干根據權利要求1至6中任一項所述的VCSEL裝置。

8.一種利用激光輻射來生成圖像，特別是用于使印刷結構成像的裝置，該裝置包括至少一個根據權利要求7所述的VCSEL陣列。

9.利用激光輻射將根據權利要求7所述的VCSEL陣列用于生成圖像，特別地用于使印刷結構成像的用途。

10.印刷基板處理設備，特別是印刷機，其包括至少一個根據權利要求8所述的裝置。

11.印刷結構處理設備，特別是板設置機，其包括至少一個根據權利要求8所述的裝置。