[發明專利]具有抗反射特性的下層組合物有效
| 申請號： | 200980148064.3 | 申請日： | 2009-12-01 |
| 公開（公告）號： | CN102227458A | 公開（公告）日： | 2011-10-26 |
| 發明（設計）人： | 尹敬皓;李鎮國;田桓承;金旼秀;宋知胤 | 申請（專利權）人： | 第一毛織株式會社 |
| 主分類號： | C08G61/02 | 分類號： | C08G61/02;C08G61/00;C08L65/00;G03F7/004 |
| 代理公司： | 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240 | 代理人： | 李丙林;張英 |
| 地址： | 韓國慶*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 具有 反射 特性 下層 組合 | ||
1.一種含芳香環聚合物，其由以下化學式1或2表示：
[化學式1]
其中，在如上化學式1中，1≤n＜250，且R1包含選自下列化學式1A的一種：
[化學式1A]
[化學式2]
其中，在如上化學式2中，1≤n＜250，R1與化學式1中的相同，R2包含選自下列化學式2A的一種，且R3選自化學式2B的一種：
[化學式2A]
[化學式2B]
2.一種抗反射下層組合物，包含：
(a)至少一種由如上化學式1或2表示的含芳香環聚合物；及
(b)有機溶劑：
[化學式1]
其中，在如上化學式1中，1≤n＜250，且R1包含選自下列化學式1A的一種：
[化學式1A]
[化學式2]
其中，在如上化學式2中，1≤n＜250，R1與化學式1中的相同，R2包含選自下列化學式2A的一種，且R3選自化學式2B的一種：
[化學式2A]
[化學式2B]
3.根據權利要求1所述的抗反射下層組合物，其中，所述下層組合物包含：
(a)1至30wt％的含芳香環聚合物；及
(b)70至99wt％的有機溶劑。
4.根據權利要求1所述的抗反射下層組合物，其中，所述含芳香環聚合物具有1000至50,000的重均分子量。
5.根據權利要求1所述的抗反射下層組合物，其中，所述下層組合物進一步包含表面活性劑。
6.一種用于圖案化基底上的下層材料層的方法，包含：
(a)在基底上提供材料層；
(b)在所述材料層上使用根據權利要求1至7中任一項所述的組合物形成抗反射下層；
(c)在所述抗反射下層上形成輻射敏感性成像層；
(d)使所述輻射敏感性成像層圖案式曝光至輻射，以在所述成像層中形成經輻射曝光的區域的圖案；
(e)選擇性移除所述輻射敏感性成案層及所述下層的部分以曝露所述材料層的部分；及
(f)蝕刻所述材料層的所述曝露部分以使所述材料層形成圖案。
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