[發(fā)明專利]激光加工裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200980147987.7 | 申請日: | 2009-11-20 |
| 公開(公告)號: | CN102227286A | 公開(公告)日: | 2011-10-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 中野誠;井上卓 | 申請(專利權(quán))人: | 浜松光子學株式會社 |
| 主分類號: | B23K26/04 | 分類號: | B23K26/04;B23K26/00;B23K26/06;G02F1/061;B23K101/40 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322 | 代理人: | 龍淳 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 激光 加工 裝置 | ||
1.一種激光加工裝置,其特征在于,
是通過使聚光點對準加工對象物的內(nèi)部并照射激光,從而在所述加工對象物中形成改質(zhì)區(qū)域的激光加工裝置,
具備:
激光光源,射出所述激光;以及
反射型空間光調(diào)制器,對由所述激光光源所射出的所述激光進行調(diào)制,
在所述激光的光路上的所述激光光源和所述反射型空間光調(diào)制器之間,配置有反射所述激光的至少2個第1鏡,
所述第1鏡被構(gòu)成為能夠調(diào)整所述激光的反射方向。
2.一種激光加工裝置,其特征在于,
是通過使聚光點對準加工對象物的內(nèi)部并照射激光,從而在所述加工對象物中形成改質(zhì)區(qū)域的激光加工裝置,
具備:
激光光源,射出所述激光;
反射型空間光調(diào)制器,對由所述激光光源所射出的所述激光進行調(diào)制;以及
調(diào)整光學系統(tǒng),調(diào)整由所述反射型空間光調(diào)制器調(diào)制后的所述激光的波陣面形狀,
在所述激光的光路上的所述反射型空間光調(diào)制器和所述調(diào)整光學系統(tǒng)之間,配置有反射所述激光的至少2個第2鏡,
所述第2鏡被構(gòu)成為能夠調(diào)整所述激光的反射方向。
3.一種激光加工裝置,其特征在于,
是通過使聚光點對準加工對象物的內(nèi)部并照射激光,從而在所述加工對象物中形成改質(zhì)區(qū)域的激光加工裝置,
具備:
激光光源,射出所述激光;
反射型空間光調(diào)制器,對由所述激光光源所射出的所述激光進行調(diào)制;
調(diào)整光學系統(tǒng),調(diào)整由所述反射型空間光調(diào)制器調(diào)制后的所述激光的波陣面形狀;以及
聚光光學系統(tǒng),將由所述調(diào)整光學系統(tǒng)調(diào)整后的所述激光聚光于所述加工對象物的內(nèi)部,
在所述激光的光路上的所述調(diào)整光學系統(tǒng)和所述聚光光學系統(tǒng)之間,配置有使所述激光透過的分色鏡。
4.如權(quán)利要求3所述的激光加工裝置,其特征在于,
還具備:聚光點位置控制單元,通過對所述加工對象物照射測定用激光,接收所述測定用激光的在所述加工對象物的反射光,從而使所述聚光點對準所述加工對象物的規(guī)定位置,
所述分色鏡使所述激光透過,并且反射所述測定用激光以及所述測定用激光的所述反射光。
5.一種激光加工裝置,其特征在于,
是通過使聚光點對準加工對象物的內(nèi)部并照射激光,從而在所述加工對象物中形成改質(zhì)區(qū)域的激光加工裝置,
具備:
激光光源,射出所述激光;
反射型空間光調(diào)制器,對由所述激光光源所射出的所述激光進行調(diào)制;
調(diào)整光學系統(tǒng),調(diào)整由所述反射型空間光調(diào)制器調(diào)制后的所述激光的波陣面形狀;
聚光光學系統(tǒng),將由所述調(diào)整光學系統(tǒng)調(diào)整后的所述激光聚光于所述加工對象物的內(nèi)部;以及
聚光點位置控制單元,通過對所述加工對象物照射測定用激光,接收所述測定用激光的在所述加工對象物的反射光,從而使所述聚光點對準所述加工對象物的規(guī)定位置,
在所述激光的光路上,
在所述激光光源和所述反射型空間光調(diào)制器之間配置有反射所述激光的至少2個第1鏡,
在所述反射型空間光調(diào)制器和所述調(diào)整光學系統(tǒng)之間配置有反射所述激光的至少2個第2鏡,
在所述調(diào)整光學系統(tǒng)和所述聚光光學系統(tǒng)之間配置有使所述激光透過并且反射所述測定用激光以及所述測定用激光的所述反射光的分色鏡。
6.如權(quán)利要求2~5中任一項所述的激光加工裝置,其特征在于,
所述調(diào)整光學系統(tǒng)為以在第1透鏡和第2透鏡之間所述第1透鏡和所述第2透鏡的焦點彼此一致的方式構(gòu)成的光學系統(tǒng)。
7.如權(quán)利要求1~6中任一項所述的激光加工裝置,其特征在于,
所述反射型空間光調(diào)制器調(diào)制所述激光,使聚光于所述加工對象物的內(nèi)部的所述激光的像差成為規(guī)定像差以下。
8.如權(quán)利要求1~7中任一項所述的激光加工裝置,其特征在于,
在所述激光的光路上,在所述鏡中位于最下游側(cè)的鏡和所述反射型空間光調(diào)制器之間配置有光束擴展器或光束均束器。
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