[發(fā)明專利]用于改善平版印刷版的成像和非成像區(qū)域的劃痕敏感性的具有納米顆粒的上膠組合物無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200980147554.1 | 申請(qǐng)日: | 2009-12-02 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102227685A | 公開(公告)日: | 2011-10-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | C·薩瓦里阿-豪克;J·彭勒 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 伊斯曼柯達(dá)公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/32 | 分類號(hào): | G03F7/32;B41N3/08;G03F7/40 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人: | 過曉東 |
| 地址: | 美國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 改善 平版印刷 成像 區(qū)域 劃痕 敏感性 具有 納米 顆粒 組合 | ||
1.改善平版印刷版的抗刮性的方法,其包括:
(a)將平版印刷版前體進(jìn)行成像曝光,
(b)在曝光后任選將所述前體顯影,
(c)將水性組合物施加在成像的平版印刷版前體上,所述水性組合物包含無機(jī)的非金屬惰性顆粒,所述顆粒由二氧化硅、氧化鋁或二氧化鈦組成,且其平均粒徑為1nm-0.5μm。
2.依據(jù)權(quán)利要求1的方法,其中所述水性組合物是含水堿性顯影劑,其還包含至少一種親水性成膜聚合物,以及其中通過施加所述顯影劑將曝光前體的涂層的非成像區(qū)域去除。
3.依據(jù)權(quán)利要求1的方法,其中所述水性組合物是水性上膠組合物,其還包含至少一種選自表面活性劑和親水性成膜聚合物的組分,以及其中將所述上膠組合物施加在成像的平版印刷版上。
4.依據(jù)權(quán)利要求1-3之一的方法,其中所述水性組合物還包含至少一種選自生物殺滅劑、絡(luò)合劑、消泡劑、著色劑、有機(jī)溶劑、緩沖劑和防腐劑的組分。
5.依據(jù)權(quán)利要求1-4之一的方法,其中所述無機(jī)的非金屬惰性顆粒的平均粒徑為10-350nm。
6.依據(jù)權(quán)利要求2的方法,其中基于所述顯影劑的總重量,顯影劑組合物中所述無機(jī)的非金屬惰性顆粒的量為2-20wt%。
7.依據(jù)權(quán)利要求3的方法,其中基于所述上膠組合物的總重量,上膠組合物中所述無機(jī)的非金屬惰性顆粒的量為0.5-20wt%。
8.依據(jù)權(quán)利要求3的方法,其中所述上膠組合物包含選自以下組中的親水性成膜聚合物:阿拉伯膠,支鏈淀粉,纖維素衍生物,淀粉衍生物,聚乙烯醇,聚乙烯吡咯烷酮,多羥基化合物,丙烯酸、甲基丙烯酸或丙烯酰胺的均聚物和共聚物,乙烯基甲基醚和馬來酸酐的共聚物,乙酸乙烯酯和馬來酸酐的共聚物,苯乙烯和馬來酸酐的共聚物,和包含氨基、以及酸基和任選存在的環(huán)氧烷烴單元的聚合物。
9.依據(jù)權(quán)利要求3的方法,其中在施加所述上膠組合物之前,所述成像的平版印刷版已經(jīng)用于印刷。
10.依據(jù)權(quán)利要求3的方法,其中在成像后立即用所述上膠組合物處理所述成像的平版印刷版。
11.依據(jù)權(quán)利要求1-10之一的方法,其中所述平版印刷版前體是IR敏感前體。
12.水性組合物,其包含:
(a)水,
(b)至少一種親水性成膜聚合物和/或表面活性劑,
(c)無機(jī)的非金屬惰性顆粒,所述顆粒由二氧化硅、氧化鋁或二氧化鈦組成,且其平均粒徑為1nm-0.5μm,和
(d)任選存在的至少一種選自表面活性劑、生物殺滅劑、絡(luò)合劑、消泡劑、著色劑、有機(jī)溶劑、緩沖劑和防腐劑的組分。
13.權(quán)利要求1-8和12之一中定義的水性組合物在改善平版印刷版的抗刮性中的用途。
14.改善平版印刷版的抗刮性的方法,其包括:
(a)在具有親水表面的基材上成像施加成像區(qū)域,和
(b)在得到的平版印刷版上施加水性組合物,所述水性組合物包含無機(jī)的非金屬惰性顆粒,所述顆粒由二氧化硅、氧化鋁或二氧化鈦組成,且其平均粒徑為1nm-0.5μm。
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