[發(fā)明專利]用于在工作空間中對(duì)磁體進(jìn)行無(wú)接觸地磁導(dǎo)航的線圈系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200980147207.9 | 申請(qǐng)日: | 2009-08-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102227869A | 公開(kāi)(公告)日: | 2011-10-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | A.祖洛斯基;J.賴因施克 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 西門子公司 |
| 主分類號(hào): | H02N15/00 | 分類號(hào): | H02N15/00 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 張濤;盧江 |
| 地址: | 德國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 德國(guó);DE |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 工作 空間 磁體 進(jìn)行 接觸 地磁 導(dǎo)航 線圈 系統(tǒng) | ||
1.?用于在工作空間中對(duì)磁體(1)進(jìn)行無(wú)接觸地磁導(dǎo)航的線圈系統(tǒng),其中所述線圈系統(tǒng)包括多個(gè)線圈和用于控制所述多個(gè)線圈中的相應(yīng)電流的電流控制裝置,
其特征在于,
所述電流控制裝置被構(gòu)造為使得為了在所述工作空間中向著能夠變化地能預(yù)給定的位置(P)對(duì)所述磁體(1)進(jìn)行導(dǎo)航,將所述多個(gè)線圈中的電流調(diào)節(jié)為使得通過(guò)所述電流生成的、在所述能預(yù)給定的位置(P)周圍的凸環(huán)境(???????????????????????????????????????????????)的邊緣上的多個(gè)位置(P1,P2,P3,P4)處作用于所述磁體(1)上的磁力(F1,F(xiàn)2,F(xiàn)3,F(xiàn)4)指向所述環(huán)境()中。
2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的線圈系統(tǒng),其特征在于,將所述環(huán)境()構(gòu)造為使得所述環(huán)境()的邊緣與所述能預(yù)給定的位置的最大距離處于0.005?和0.1米之間、優(yōu)選為0.01米。
3.?根據(jù)以上權(quán)利要求之一所述的線圈系統(tǒng),其特征在于,所述能預(yù)給定的位置(P)周圍的環(huán)境()是多邊形和/或多面體。
4.?根據(jù)權(quán)利要求3所述的線圈系統(tǒng),其特征在于,所述多個(gè)位置(P1,P2,P3,P4)位于所述多邊形和/或多面體的一個(gè)或多個(gè)角點(diǎn)處,尤其是位于所有的角點(diǎn)處。
5.?根據(jù)以上權(quán)利要求之一所述的線圈系統(tǒng),其特征在于,將所述電流控制裝置構(gòu)造為使得通過(guò)所述電流控制裝置針對(duì)所述能預(yù)給定的位置(P)來(lái)計(jì)算所述線圈系統(tǒng)運(yùn)行中的電流。
6.?根據(jù)以上權(quán)利要求之一所述的線圈系統(tǒng),其特征在于,將待為多個(gè)能預(yù)給定的位置(P)調(diào)節(jié)的電流存儲(chǔ)在所述電流控制裝置的存儲(chǔ)器中。
7.?根據(jù)以上權(quán)利要求之一所述的線圈系統(tǒng),其特征在于,為了向著所述能預(yù)給定的位置(P)對(duì)所述磁體(1)進(jìn)行導(dǎo)航而調(diào)節(jié)的電流是具有以下邊界條件的優(yōu)化問(wèn)題解決方案:通過(guò)所述電流生成的、在所述能預(yù)給定的位置(P)周圍的凸環(huán)境()的邊緣上的多個(gè)位置(P1,P2,P3,P4)處作用于所述磁體(1)的磁力(F1,F(xiàn)2,F(xiàn)3,F(xiàn)4)指向所述環(huán)境()中。
8.?根據(jù)權(quán)利要求7所述的線圈系統(tǒng),其特征在于,所述優(yōu)化問(wèn)題是線性程序和/或二次程序。
9.?根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的線圈系統(tǒng),其特征在于,所述優(yōu)化問(wèn)題是包括所述多個(gè)線圈中電流的電流矢量的數(shù)值的最小化,其中作為另外的邊界條件考慮:通過(guò)所述電流生成的、在所述能預(yù)給定的位置(P)周圍的環(huán)境()的邊緣上的多個(gè)位置(P1,P2,P3,P4)處作用于所述磁體(1)的磁力(F1,F(xiàn)2,F(xiàn)3,F(xiàn)4)在數(shù)值上分別超過(guò)預(yù)先確定的值。
10.?根據(jù)權(quán)利要求7至9之一所述的線圈系統(tǒng),其特征在于,所述優(yōu)化問(wèn)題是通過(guò)所述電流生成的、在所述能預(yù)給定的位置(P)周圍的凸環(huán)境()的邊緣上的多個(gè)位置(P1,P2,P3,P4)處作用于所述磁體(1)的磁力(F1,F(xiàn)2,F(xiàn)3,F(xiàn)4)在數(shù)值上的最大化,其中作為另外的邊界條件考慮:所述多個(gè)線圈的電流在數(shù)值上低于相應(yīng)的最大值。
11.?根據(jù)權(quán)利要求7至10之一所述的線圈系統(tǒng),其特征在于,在解決所述優(yōu)化問(wèn)題時(shí)作為附加的邊界條件考慮:在所述能預(yù)給定的位置(P)處通過(guò)所述電流產(chǎn)生的磁場(chǎng)基本上指向預(yù)給定的方向并且具有超過(guò)預(yù)給定值的數(shù)值。
12.?根據(jù)權(quán)利要求7至11之一所述的線圈系統(tǒng),其特征在于,在解決所述優(yōu)化問(wèn)題時(shí),對(duì)所述多個(gè)線圈的相應(yīng)電流進(jìn)行不同的加權(quán)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于西門子公司,未經(jīng)西門子公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200980147207.9/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:無(wú)糖型勻漿膳
- 下一篇:一種新型大容量壁掛式加熱裝置





