[發明專利]分子篩SSZ-83

有效

• 申請號: 200980146914.6
• 申請日: 2009-11-19
• 公開（公告）號: CN102224104A
• 公開（公告）日: 2011-10-19
• 發明（設計）人: A·W·小伯頓;S·I·佐恩斯
• 申請（專利權）人: 雪佛龍美國公司
• 主分類號: C01B39/04
• 分類號: C01B39/04
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 任永利

1.一種分子篩，其具有大于約20的(1)第一種四價元素的氧化物與(2)三價元素的氧化物、五價元素的氧化物、不同于所述第一種四價元素的第二種四價元素的氧化物或它們的混合物的摩爾比，并在煅燒之后具有基本上為下表中所示的X射線衍射圖案：

2.權利要求1所述的分子篩，其中所述分子篩具有大于約20的(1)硅的氧化物與(2)選自鋁的氧化物、鎵的氧化物、鐵的氧化物、硼的氧化物、鈦的氧化物、銦的氧化物及它們的混合物中的氧化物的摩爾比。

3.權利要求1所述的分子篩，其中所述分子篩在合成后原樣狀態且在無水狀態下具有以摩爾比計的下列組成：

其中：

(1)Y選自周期表的4～14族中的四價元素以及它們的混合物；

(2)W選自周期表的3～13族中的三價、五價和四價元素以及它們的混合物；

(3)c為1或2，且當c為1時d為2，或當c為2時d為3或5；和

(4)Q為選自1，4-雙(N-丁基哌啶鎓)丁烷二價陽離子和1，4-雙(N-丁基吡咯烷鎓)丁烷二價陽離子的SDA二價陽離子。

4.權利要求3所述的分子篩，其中Y選自Ge、Si及它們的混合物。

5.權利要求4所述的分子篩，其中Y為Si。

6.權利要求3所述的分子篩，其中W選自Ga、Al、Fe、B、Ti、In及它們的混合物。

7.權利要求6所述的分子篩，其中W選自Al、B、Fe、Ga及它們的混合物。

8.權利要求3所述的分子篩，其中Y為Si且W為Al。

9.一種制備分子篩的方法，所述方法包括在結晶條件下使下列物質進行接觸：(1)第一種四價元素的氧化物的至少一種源；(2)任選地，選自三價元素的氧化物、五價元素的氧化物、不同于第一種四價元素的第二種四價元素的氧化物以及它們的混合物中的氧化物的一種或多種源；(3)氟離子；和(4)選自1，4-雙(N-丁基哌啶鎓)丁烷二價陽離子和1，4-雙(N-丁基吡咯烷鎓)丁烷二價陽離子的SDA二價陽離子。

10.權利要求9的方法，其中由反應混合物制備所述分子篩，所述反應混合物包含以摩爾比計的下表中的物質：

其中：

(1)Y選自周期表的4～14族中的四價元素以及它們的混合物；

(2)W選自周期表的3～13族中的三價、五價和四價元素以及它們的混合物；

(3)c為1或2，且當c為1時d為2，或當c為2時d為3或5；

(4)Q為選自1，4-雙(N-丁基哌啶鎓)丁烷二價陽離子和1，4-雙(N-丁基吡咯烷鎓)丁烷二價陽離子的SDA二價陽離子。

11.權利要求10所述的方法，其中Y選自Ge、Si及它們的混合物。

12.權利要求11所述的方法，其中Y為Si。

13.權利要求10所述的方法，其中W選自Ga、Al、Fe、B、Ti、In及它們的混合物。

14.權利要求10所述的方法，其中Y為Si且W為Al。

15.權利要求9所述的方法，其中在煅燒之后所述分子篩具有基本上為下表中所示的X射線衍射圖案：