[發明專利]監控電位測量探針的方法

有效

• 申請號: 200980146783.1
• 申請日: 2009-11-23
• 公開（公告）號: CN102224471A
• 公開（公告）日: 2011-10-19
• 發明（設計）人: P·埃里斯曼
• 申請（專利權）人: 梅特勒-托利多公開股份有限公司
• 主分類號: G05B23/02
• 分類號: G05B23/02;G01N27/416
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 陳松濤;蹇煒

1.一種監控測量探針的方法，所述測量探針特別是離子敏感的電流、電位或光學測量探針，所述測量探針與測量介質接觸并用于獲取所述測量介質的至少一個測量值(X)，所述方法包括以下步驟：

-測量第一參數(P1)的時間相關的值；

-確定所述第一參數(P1)的值的時間導數并確立第一絕對值(|dp1/dt|)；

-將所述第一絕對值(|dp1/dt|)與第一閾值(G1)進行比較；

-記錄所述第一絕對值(|dp1/dt|)超過所述第一閾值時的第一時間點(t1)；

-在此第一時間點(t1)開始，監控所述第一參數(P1)的值，直至所述第一絕對值(|dp1/dt|)下降到所述第一閾值(G1)以下時的第二時間點(t2)；

-從所述第二時間點(t2)開始，測量第二參數(P2)的時間相關的值；

-確定所述第二參數(P2)的值的時間導數并確立第二絕對值(|dp2/dt|)；

-將所述第二絕對值(|dp2/dt|)與第二閾值(G2)進行比較，直至所述第二絕對值(|dp2/dt|)下降到所述第二閾值(G2)以下時的第三時間點(t3)；

-確定所述測量探針的與所述第一、第二和/或第三時間點(t1、t2、t3)相關聯的監控量；

其中，所述第一參數(P1)比所述第二參數(P2)更快地響應于所述測量介質所經受的處理的改變，并且其中，兩個參數(P1、P2)均是探針特異性參數。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法包括將兩個或更多探針特異性參數的所述測量值的行為進行比較。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述監控量是所述測量探針的相對響應行為(A)，該確定包括以下步驟：

-在所述第一時間點(t1)記錄第一測量值(X1)；

-在所述第三時間點(t3)記錄第二測量值(X2)；

-確定所述第一測量值(X1)和所述第二測量值(X2)之間的差；

-確定所述第一時間點(t1)和所述第三時間點(t3)之間的時間間隔。

4.根據權利要求1至3中的一項所述的方法，

其特征在于，所述方法還包括：

確定第四和/或第五時間點(t4、t5)，所述第四和/或第五時間點(t4、t5)分別對應于所述第一和第二測量值之間的差的約95％和約98％；以及

基于所述第四和/或第五時間點來計算探針特異性量。

5.根據權利要求1至4中的一項所述的方法，

其特征在于，所述方法還包括以下步驟：

-在存儲器中存儲探針特異性監控量；以及

-確定所述測量探針的剩余操作壽命。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，通過將所述監控量的當前值與用于所述監控量的最佳值進行比較來確定所述剩余操作壽命。

7.根據權利要求1至4中的一項所述的方法，

其特征在于，所述監控量是所述測量值的穩定性，其中，基于記錄的所述第一和第三時間點(t1、t3)，確定其間所述測量探針傳送不穩定測量值(X)的時間窗口，并且其中，使所述時間窗口引起用戶的注意。

8.根據權利要求1至7中的一項所述的方法，

其特征在于，所述第一參數和所述第二參數包括：

-氧化還原電位(ORP)和第一玻璃值(U_glas1-U_SG)，

-第一參考值(Ref1)和第二參考值(Ref2)，

-所述氧化還原電位(ORP)和測量值電位(U_pH)，

或

-所述第一玻璃值(U_glas1-U_SG)和第二玻璃值(U_glas2-U_SG)。

9.根據權利要求1至8中的一項所述的方法，

其特征在于，所述方法是所述測量探針操作時被執行的動態方法。

10.一種設計為執行根據權利要求1至9中的一項所述的方法的測量系統，所述測量系統具有測量探針，所述測量探針特別是離子敏感的電流、電位或光學測量探針，所述測量系統具有發送器和控制器，其中，所述測量探針與測量介質接觸并且所述控制器包括計算機單元和設計為執行所述方法的至少一個程序。