[發(fā)明專利]外延反應器的反應室

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200980146751.1
• 申請日: 2009-11-20
• 公開（公告）號: CN102224277A
• 公開（公告）日: 2011-10-19
• 發(fā)明（設計）人: 馬里奧·普萊蒂
• 申請（專利權）人: LPE公司
• 主分類號: C23C16/46
• 分類號: C23C16/46;C23C16/48;B01J19/02
• 代理公司: 北京安信方達知識產(chǎn)權代理有限公司 11262
• 代理人: 李冬梅;鄭霞

1.一種基本上由中空的石英部件構成的外延反應器的反應室，其中所述中空的石英部件包括具有圓柱體或棱柱體或圓錐體或棱錐體形狀的石英部件部分(1；11)和設置在所述石英部件部分(1；11)中的軸向通孔(2；12)，其中所述石英部件部分(1；11)適合于根據(jù)三個方向中的兩個界定反應和沉積區(qū)(3；13)，并且適合于容納將在所述軸向通孔(2；12)內部被加熱的至少一個基座(4；14)，所述室的特征在于，所述室包括適合于將由所述基座(4；14)發(fā)出的在1,000nm和10,000nm之間，優(yōu)選在1,500nm和3,000nm之間的波長范圍內的紅外輻射反射回去的反射層(5；15)，其中所述反射層(5；15)由基于石英的材料制成，并且其中所述反射層(5；15)被應用于所述石英部件部分(1；11)和/或被應用于所述反應室的石英組件。

2.根據(jù)權利要求1所述的反應室，其中所述反射層(5；15)位于所述石英部件部分(1；11)的內部和/或位于所述石英部件部分(1；11)的外部。

3.根據(jù)權利要求1或2所述的反應室，其中所述反射層(5；15)部分地或完全地覆蓋所述石英部件部分(1；11)。

4.根據(jù)權利要求1或2或3所述的反應室，其中所述反射層被玻璃化石英層部分地或完全地覆蓋。

5.根據(jù)前述權利要求1到4中任一項所述的反應室，其特征在于，所述石英部件部分(1)設置有適合于將由所述基座(4)發(fā)出的紅外輻射反射回去的另一反射層(6)，其中所述另一反射層(6)由基于金的材料制成。

6.根據(jù)權利要求5所述的反應室，其中所述反射層(5、6)覆蓋不同區(qū)域中的所述石英部件部分(1)。

7.根據(jù)前述權利要求1到6中任一項所述的反應室，其中所述石英部件部分(1；11)由透明石英制成。

8.根據(jù)前述權利要求1到7中任一項所述的反應室，其特征在于，所述反應室包括位于所述中空的石英部件的末端的凸緣(7；17)，其中所述凸緣(7；17)由不透明石英制成。

9.根據(jù)前述權利要求1到8中任一項所述的反應室，其特征在于，適合于借助于至少一種氣流或液流來冷卻。

10.一種外延反應器，其特征在于，所述外延反應器包括根據(jù)前述權利要求1到9中任一項所述的反應室。