[發明專利]電子部件的制造方法有效
| 申請號: | 200980146737.1 | 申請日: | 2009-11-11 |
| 公開(公告)號: | CN102217040A | 公開(公告)日: | 2011-10-12 |
| 發明(設計)人: | 齊藤岳史;高津知道 | 申請(專利權)人: | 電氣化學工業株式會社 |
| 主分類號: | H01L21/301 | 分類號: | H01L21/301 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 劉多益 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電子 部件 制造 方法 | ||
1.帶有粘合劑半固化層的半導體晶圓的切割方法,包括:
粘合劑半固化層形成工序,在半導體晶圓的背面涂布膏狀粘合劑并且對該膏狀粘合劑進行加熱或紫外線照射,使得膏狀粘合劑半固化為片狀,從而形成粘合劑半固化層;
貼合工序,將在基膜上層疊紫外線固化型粘合劑后所得的粘合片貼合于所述粘合劑半固化層上;
紫外線照射工序,對所述紫外線固化型粘合劑進行紫外線照射;以及
切割工序,對貼合在所述粘合片上的所述粘合劑半固化層和所述半導體晶圓進行切割。
2.如權利要求1所述的切割方法,其中,
所述紫外線固化型粘合劑至少含有:(甲基)丙烯酸酯聚合物、含有4個以上乙烯基的氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物、紫外線聚合引發劑和有機硅接枝聚合物。
3.如權利要求1所述的切割方法,其中,
所述粘合劑半固化層至少含有環氧樹脂、聚酰亞胺樹脂、丙烯酸樹脂和有機硅樹脂,并且,所述粘合劑半固化層的厚度為10μm以上。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于電氣化學工業株式會社,未經電氣化學工業株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200980146737.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:水中鐵的在線檢測裝置
- 下一篇:一種粉體流動性和可壓縮性的測量裝置及測量方法
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





