[發明專利]表膜用膜、與TFT液晶面板制造用掩模一起使用的表膜、及包含該表膜的光掩模

有效

• 申請號: 200980145885.1
• 申請日: 2009-11-19
• 公開（公告）號: CN102216850A
• 公開（公告）日: 2011-10-12
• 發明（設計）人: 柳田好德;金子靖;阿部泰之;小川博司;村井誠;新地博之;土屋雅譽;本田邦之;田中友和;橋本憲尚
• 申請（專利權）人: 旭化成電子材料株式會社;HOYA株式會社
• 主分類號: G03F1/14
• 分類號: G03F1/14
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

1.一種表膜用膜，其在70℃下72小時的換算成每微米膜厚的草酸透過量為1.0×10^-3mg/cm²以下，主要膜材料為光學用有機高分子。

2.一種表膜用膜，其在25℃下的氨透過系數為8.0×10^-9cm³·μm/cm²·s·Pa以下，主要膜材料為光學用有機高分子。

3.根據權利要求2所述的表膜用膜，其在70℃下72小時的換算成每微米膜厚的草酸透過量為1.0×10^-3mg/cm²以下。

4.一種表膜用膜，其中，主要膜材料為光學用有機高分子，該膜材料中含有相對于該光學用有機高分子的總重量為0.1重量％以上且15重量％以下的光穩定劑。

5.根據權利要求4所述的表膜用膜，其中，所述光學用有機高分子為環烯烴系樹脂或纖維素衍生物。

6.根據權利要求4或5所述的表膜用膜，其中，所述光穩定劑為受阻胺系光穩定劑。

7.一種表膜，其具有：框體、在該框體的上邊緣表面側的權利要求1～6中任一項所述的表膜用膜、和在該框體的下邊緣表面側的粘合材料層。

8.根據權利要求7所述的表膜，其與TFT液晶面板制造用光掩模一起使用。

9.一種表膜用膜的制造方法，其包括以下工序：在有機溶劑中溶解光學用有機高分子和光穩定劑，從而制作聚合物溶液的工序；以及從該聚合物溶液除去有機溶劑的工序。

10.根據權利要求9所述的表膜用膜的制造方法，其中，所述有機溶劑為脂環式烴、氯系烴、酯系化合物或酮系化合物。

11.根據權利要求9或10所述的表膜用膜的制造方法，其中，所述光穩定劑為受阻胺系光穩定劑。

12.根據權利要求11所述的表膜用膜的制造方法，其中，所述受阻胺系光穩定劑在25℃下呈液態。

13.根據權利要求9～12中任一項所述的表膜用膜的制造方法，所述光學用有機高分子為環烯烴樹脂或纖維素衍生物。

14.一種液晶顯示裝置制造用光掩模，其在透明基板的表面具有對含鉻的遮光性膜進行圖案化而成的轉印圖案，并且，在該透明基板的具有轉印圖案一側的表面安裝有表膜，

該透明基板具有1000cm²以上的面積，

該表膜的表膜用膜的膜厚為0.5μm以上且8μm以下，并且，在溫度70℃的氣氛中放置了72小時的該表膜用膜的換算成每微米膜厚的草酸透過量為1.0×10^-3mg/cm²以下。

15.根據權利要求14所述的光掩模，其中，所述遮光性膜的轉印圖案通過濺射法而成膜于所述透明基板上、并具有通過蝕刻而圖案化的圖案剖面。

16.一種圖案轉印方法，通過在溫度15℃以上的氣氛中對權利要求14或15所述的光掩模照射包含i射線～g射線的波長范圍的曝光光，從而將所述轉印圖案轉印到被轉印體上。

17.一種TFT液晶面板的制造方法，其包括以下工序：準備權利要求14或15所述的光掩模的工序；通過該光掩模對具有ITO電極且涂布有感光性抗蝕劑而成的TFT液晶面板基板進行曝光的工序；對該感光性抗蝕劑進行顯影的工序；以及用含有草酸的蝕刻液對該ITO電極進行蝕刻的工序。

18.一種表膜，其是與TFT液晶面板制造用掩模一起使用的表膜，該表膜包含框體、層疊于該框體的下邊緣表面側的粘合材料層、以及鋪展于該框體的上邊緣表面側的表膜用膜，該表膜用膜的膜厚為0.5μm以上且8μm以下，并且，該表膜用膜在70℃下72小時的草酸透過量為1×10^-4mg/cm²以下。

19.根據權利要求18所述的表膜，所述表膜用膜的面積為1000cm²以上且30000cm²以下。

20.根據權利要求18或19所述的表膜，所述表膜用膜由包含環烯烴系樹脂的膜材料形成。