[發明專利]具有旋轉構件的用于液體填充室的排氣裝置有效
| 申請號: | 200980145602.3 | 申請日: | 2009-10-30 |
| 公開(公告)號: | CN102216624A | 公開(公告)日: | 2011-10-12 |
| 發明(設計)人: | L·烏爾班;S·普拉格爾 | 申請(專利權)人: | KSB股份公司 |
| 主分類號: | F04D29/10 | 分類號: | F04D29/10;F04D29/12;F16J15/34 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 夏心駿;梁冰 |
| 地址: | 德國弗*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 旋轉 構件 用于 液體 填充 排氣裝置 | ||
1.排氣裝置,包括具有室的殼體,該室具有布置在其中的旋轉構件,尤其是軸,軸承結構和/或軸密封,其中在室中安裝有至少一個利用自由的肋端在形成軸線平行的縫隙下到達旋轉構件的肋,并且用于液體的排氣室被布置在縫隙之后,
其特征在于,
在室(2)中與縫隙具有間距地以及相對于縫隙布置有用于分配縫隙射束(17)的射束分離-壁面(18),并且在到射束分離-壁面(18)上的縫隙-突起(B)的側向間距中其設有到排氣室的一個或者多個連接口(15)。
2.根據權利要求1的排氣裝置,其特征在于,所述肋(12)作為靠近旋轉軸線的殼體肋在形成加速縫隙(14)下緊貼地到達旋轉構件(3)。
3.根據權利要求1或2的排氣裝置,其特征在于,射束分離-壁面(18)與由加速縫隙(14)射出的縫隙射束(17)成角度(α)地尤其在法線方向上被布置。
4.根據權利要求3的排氣裝置,其特征在于,射束分離-壁面的選擇的傾斜處于相對于縫隙射束(17)的法線的銳角(α)的尺寸布置中。
5.根據權利要求1、2、3或4的排氣裝置,其特征在于,射束分離-壁面(18)被構造為遠離旋轉軸線的殼體壁或者殼體肋(26)的部件。
6.根據權利要求1至5之一的排氣裝置,其特征在于,射束分離-壁面(18)關于旋轉構件(3)并且在橫截面中觀察作為行者構造。
7.根據權利要求1至6之一的排氣裝置,其特征在于,限制加速縫隙(14)的靠近旋轉軸線的殼體肋(12)和射束分離-壁面(18)在室(2)的空間的殼體象限(I)的內部被布置。
8.根據權利要求1至7之一的排氣裝置,其特征在于,殼體肋(12、26)的自由端具有相反的延伸方向。
9.根據權利要求1至8之一的排氣裝置,其特征在于,低壓室(11)形成在殼體肋(12)和射束分離-壁面(18)之間的室(2)中以及在縫隙射束(17)的遠離旋轉軸線的側上。
10.根據權利要求9的排氣裝置,其特征在于,低壓室(11)離開旋轉構件(3)延伸。
11.根據權利要求1至10之一的排氣裝置,其特征在于,遠離旋轉軸線的射束分離-壁面(18)或者設置有射束分離-壁面(18)的殼體壁或者殼體肋(26)形成排氣室(4)的壁。
12.根據權利要求1至11一個或者多個的排氣裝置,其特征在于,關于旋轉軸線(10),低壓室(11)布置在靠近旋轉軸線的肋(12)和遠離旋轉軸線的排氣室(4)之間。
13.根據權利要求1至12一個或者多個的排氣裝置,其特征在于,射束分離-壁面(18)和/或其在連接口(15)的方向上布置的延長部處在限制低壓室(11)的射束分離的內壁(18.1)上并且在低壓室(11)中旋轉的渦流(19)的分流(28)沿著射束分離的內壁(18.1)流入排氣室(4)中。
14.根據權利要求1至13一個或者多個的排氣裝置,其特征在于,排氣室(4)設有排氣口(21)。
15.根據權利要求1至14一個或者多個的排氣裝置,其特征在于,在軸向上相繼布置兩個或更多個排氣裝置并且每個排氣室(4)都設有排氣口(21)。
16.根據權利要求15的排氣裝置,其特征在于,在兩個排氣室(4.1,4.2)之間布置有分隔壁(22)并且在分隔壁(22)和外壁之間的T形連接區域中布置有排氣口(21)。
17.根據權利要求1至16一個或者多個的排氣裝置,其特征在于,在排氣室(4,4.1,4.2)的軸向的端部區域上布置有與旋轉軸線(10)成角度延伸的排氣口(21)。
18.根據權利要求1至17一個或者多個的排氣裝置,其特征在于,排氣室(4,4.1,4.2)是殼體(1)的整體的組成部分或者單獨的組成部分。
19.根據權利要求1至18一個或者多個的排氣裝置,其特征在于,圍繞旋轉構件(3)的室(2),尤其是其周圍壁面,完全或者部分地具有螺旋形的輪廓(16)。
20.根據權利要求19的排氣裝置,其特征在于,靠近旋轉軸線的肋(12)在內輪廓(16)的螺旋形發展的室中在空間的殼體象限(I)的區域中被布置,其關于旋轉軸線(10)具有最大的徑向延伸。
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