[發明專利]X射線成像設備

有效

• 申請號: 200980144193.5
• 申請日: 2009-11-09
• 公開（公告）號: CN102209494A
• 公開（公告）日: 2011-10-05
• 發明（設計）人: 辻井修;佐藤真;奧貫昌彥;清水英;小倉隆
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: A61B6/00
• 分類號: A61B6/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 魏小薇

1.一種X射線成像設備，包括：

多X射線源，具有被二維布置的多個X射線源；

X射線檢測器，具有面向多X射線源的被二維布置的多個檢測元件；

準直器，設置在多X射線源和X射線檢測器之間，用于限制來自多X射線源的X射線的照射區域，用于使X射線通過的多個狹縫與所述多個X射線源對應且被二維形成在該準直器中，并且，所述多個狹縫的尺寸和位置是能夠被調整的；

選擇裝置，用于從所述多個X射線源選擇用于執行X射線照射的一個或更多個X射線源，以便選擇對象的檢查區域；以及

控制裝置，用于根據選擇裝置的選擇，控制準直器的所述多個狹縫的尺寸和位置，

其中，該控制裝置具有：

第一控制模式，用于當通過選擇裝置改變為不同的X射線源時，控制所述多個狹縫的尺寸和位置以平行地移動檢查區域，使得改變前后的檢查方向是平行的；和

第二控制模式，用于當通過選擇裝置改變為不同的X射線源時，控制所述多個狹縫的尺寸和位置以旋轉檢查方向，使得改變前后的檢查區域的中心是相同的。

2.根據權利要求1的X射線成像設備，還包括設定裝置，用于設定從所述多個X射線源中的一個X射線源到假想對象的中心的距離，

其中，所述控制裝置基于由所述設定裝置設定的距離來控制所述多個狹縫的尺寸和位置。

3.根據權利要求1和2中的一項的X射線成像設備，其中，所述控制裝置進一步控制準直器，使得從多X射線源照射的X射線都被投射到X射線檢測器上。

4.根據權利要求1～3中的任一項的X射線成像設備，還包括：

圖像處理裝置，用于在從多X射線源照射的X射線斜入射到X射線檢測器上的情況下，對表示由X射線檢測器檢測的X射線的強度分布的X射線透視圖像執行仿射變換，由此，與連接照射了X射線的X射線源和檢查區域的中心的直線正交并且包含該直線和X射線檢測器相交的點的平面是仿射變換平面；以及

顯示裝置，用于顯示由圖像處理裝置獲得的經仿射變換的X射線透視圖像。

5.根據權利要求1的X射線成像設備，還包括接收裝置，所述接收裝置用于在由選擇裝置從所述多個X射線源選擇用于執行X射線照射的至少兩個X射線源時，接收將所述至少兩個X射線源中的第一X射線源改變為不同位置處的第二X射線源的指令，

其中，當所述接收裝置接收到指令時，所述選擇裝置將第一X射線源改變為第二X射線源，并且將所述至少兩個X射線源中的其余的X射線源改變為這樣的位置處的X射線源，即在所述位置處，改變之前的所述至少兩個X射線源的相對位置關系被保持。

6.根據權利要求1的X射線成像設備，還包括接收裝置，所述接收裝置用于在由選擇裝置從所述多個X射線源選擇用于執行X射線照射的至少兩個X射線源時，接收將所述至少兩個X射線源中的第一X射線源改變為不同位置處的第二X射線源的指令，

其中，當所述接收裝置接收到指令時，所述選擇裝置將第一X射線源改變為第二X射線源，并且將所述至少兩個X射線源中的其余的X射線源改變為這樣的位置處的X射線源，即在所述位置處，改變之前的所述至少兩個X射線源的相對位置關系被縮放。