[發明專利]聚合物及其制備方法有效
| 申請號： | 200980144056.1 | 申請日： | 2009-10-09 |
| 公開（公告）號： | CN102203168A | 公開（公告）日： | 2011-09-28 |
| 發明（設計）人： | 李永茂;樸浩范;鄭哲豪;韓尚勳 | 申請（專利權）人： | 漢陽大學校產學協力團 |
| 主分類號： | C08G73/10 | 分類號： | C08G73/10;C08G73/06;C08L79/08;C08K3/24;C08K3/36;C08K3/22;C08J5/18;C08J5/00;D01F6/74 |
| 代理公司： | 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262 | 代理人： | 申基成;鄭霞 |
| 地址： | 韓國*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 聚合物 及其 制備 方法 | ||
1.一種衍生于聚酰胺酸或聚酰亞胺的聚合物，其中
所述衍生于聚酰胺酸或聚酰亞胺的聚合物包含皮可孔，且
所述聚酰胺酸與所述聚酰亞胺包括從芳族二胺和二酐獲得的重復單元，所述芳族二胺包括至少一個處于胺基的鄰位的官能團。
2.根據權利要求1所述的聚合物，其中所述皮可孔具有通過連接至少兩個皮可孔而形成的沙漏形結構。
3.根據權利要求1所述的聚合物，其中所述官能團包括OH、SH或NH2。
4.根據權利要求1所述的聚合物，其中所述衍生于聚酰胺酸或聚酰亞胺的聚合物具有0.18至0.40的自由體積分數(FFV)。
5.根據權利要求1所述的聚合物，其中所述衍生于聚酰胺酸或聚酰亞胺的聚合物具有由X-射線衍射(XRD)測量為580pm至800pm的面間距(d-間隔)。
6.根據權利要求1所述的聚合物，其中所述皮可孔具有由正電子湮沒壽命譜(PALS)測量為約10pm至約40pm的半寬度(FWHM)。
7.根據權利要求1所述的聚合物，其中所述衍生于聚酰胺酸或聚酰亞胺的聚合物具有100m2/g至1000m2/g的BET表面積。
8.根據權利要求1所述的聚合物，其中所述聚酰胺酸選自以下組成的組：包含由以下化學式1至4表示的重復單元的聚酰胺酸、包含由以下化學式5至8表示的重復單元的聚酰胺酸共聚物、其共聚物、和其混合物：
其中在以上化學式1至8中，
Ar1是選自取代或未取代的四價C6至C24亞芳基和取代或未取代的四價C4至C24雜環基的芳族基，其中所述芳族基單獨地存在；至少兩個芳族基團稠合形成縮合環；或至少兩個芳族基團由單鍵或選自O、S、C(＝O)、CH(OH)、S(＝O)2、Si(CH3)2、(CH2)p(其中1≤p≤10)、(CF2)q(其中1≤q≤10)、C(CH3)2、C(CF3)2或C(＝O)NH的官能團連接，
Ar2是選自取代或未取代的二價C6至C24亞芳基和取代或未取代的二價C4至C24雜環基的芳族基團，其中所述芳族基團單獨地存在；至少兩個芳族基團稠合形成縮合環；或至少兩個芳族基團由單鍵或選自O、S、C(＝O)、CH(OH)、S(＝O)2、Si(CH3)2、(CH2)p(其中1≤p≤10)、(CF2)q(其中1≤q≤10)、C(CH3)2、C(CF3)2或C(＝O)NH的官能團連接，
Q是O、S、C(＝O)、CH(OH)、S(＝O)2、Si(CH3)2、(CH2)p(其中1≤p≤10)、(CF2)q(其中1≤q≤10)、C(CH3)2、C(CF3)2、C(＝O)NH、C(CH3)(CF3)或取代或未取代的亞苯基(其中所述取代的亞苯基是以C1至C6烷基或C1至C6鹵代烷基取代的亞苯基)，其中所述Q與芳族基團以m-m、m-p、p-m或p-p位置連接，
Y在每個重復單元中相同或不同，并獨立地選自OH、SH和NH2，
n是從20至200的整數，
m是從10至400的整數，且
l是從10至400的整數。
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