[發(fā)明專利]受控的機(jī)架不平衡

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200980143818.6
• 申請(qǐng)日: 2009-10-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102202577A
• 公開(kāi)（公告）日: 2011-09-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: R·B·夏普萊斯
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 皇家飛利浦電子股份有限公司
• 主分類號(hào): A61B6/03
• 分類號(hào): A61B6/03;F16F15/32;G01M1/36
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 王英;劉炳勝

1.一種成像系統(tǒng)，包括：

靜止框架(104)；

能繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的框架(106)，其能繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)地附接到所述靜止框架(104)并被配置成關(guān)于橫軸(108)繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)；

旋轉(zhuǎn)框架(110)，其由所述能繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的框架(106)旋轉(zhuǎn)地支撐并被配置成關(guān)于縱軸(114)繞檢查區(qū)域(112)旋轉(zhuǎn)；

旋轉(zhuǎn)框架平衡器(118)，其被配置成有選擇地引入旋轉(zhuǎn)框架質(zhì)量不平衡；

輻射源(116)，其固定到所述旋轉(zhuǎn)框架(110)并從焦斑發(fā)射輻射，其中，所述輻射貫穿所述檢查區(qū)域(112)；以及

探測(cè)器陣列(128)，其探測(cè)貫穿所述檢查區(qū)域(112)的輻射并生成指示所述輻射的信號(hào)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述不平衡導(dǎo)致所述能繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的框架(106)在所述旋轉(zhuǎn)框架(110)繞所述縱軸(114)旋轉(zhuǎn)的同時(shí)關(guān)于所述橫軸(108)來(lái)回繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其中，繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)框架(110)沿所述縱軸(114)來(lái)回平移所述焦斑。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其中，繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)框架(110)沿預(yù)期的掃描軌線移動(dòng)所述焦斑。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其中，所述掃描軌線為鞍形軌線。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中的任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)，其中，所述旋轉(zhuǎn)框架平衡器(118)包括被配置成沿所述縱軸(114)平移的能移動(dòng)的質(zhì)量塊(206)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其中，所述旋轉(zhuǎn)框架平衡器(118)還包括：

軸承(202)，其固定到所述旋轉(zhuǎn)框架(110)；

電動(dòng)機(jī)(204)，其使所述軸承(202)致動(dòng)；以及

控制器(122)，其控制所述電動(dòng)機(jī)(204)，其中，所述能移動(dòng)的質(zhì)量塊(206)固定到所述軸承(202)，并且所述控制器(122)提供使所述電動(dòng)機(jī)(204)致動(dòng)以移動(dòng)所述軸承(202)的控制信號(hào)，從而移動(dòng)所述能移動(dòng)的質(zhì)量塊(206)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，還包括：

對(duì)抗質(zhì)量塊(124)，其位于所述旋轉(zhuǎn)框架(110)上，在所述旋轉(zhuǎn)框架平衡器(118)對(duì)面，所述檢查區(qū)域(112)的對(duì)側(cè)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1-8中的任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)，其中，所述旋轉(zhuǎn)框架平衡器(118)從所述輻射源(116)角偏移角度α(702)。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其中，所述角度α(702)至少確定所述焦斑沿z軸(114)的最大位移。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其中，所述角度α(702)是成像規(guī)程的函數(shù)。

12.根據(jù)權(quán)利要求1-10中的任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)，還包括阻尼器(126)，其對(duì)所述能繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的框架(106)的繞樞軸的轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)行阻尼。

13.根據(jù)權(quán)利要求1-12中的任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)，其中，所述旋轉(zhuǎn)框架平衡器(118)在所述旋轉(zhuǎn)框架(110)旋轉(zhuǎn)的同時(shí)改變所述質(zhì)量不平衡。

14.一種方法，包括有選擇地生成旋轉(zhuǎn)框架(110)質(zhì)量不平衡，其中，所述旋轉(zhuǎn)框架(110)是成像系統(tǒng)(100)的一部分并且支撐所述成像系統(tǒng)(100)的輻射源(116)。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述質(zhì)量不平衡限定所述輻射源(116)的焦斑的焦斑軌線。

16.根據(jù)權(quán)利要求14到15中的任一項(xiàng)所述的方法，其中，生成所述旋轉(zhuǎn)框架(110)質(zhì)量不平衡包括沿縱軸(114)有選擇地移動(dòng)能移動(dòng)地固定到所述旋轉(zhuǎn)框架(110)的質(zhì)量塊(206)。

17.根據(jù)權(quán)利要求14到16中的任一項(xiàng)所述的方法，其中，所述不平衡導(dǎo)致所述旋轉(zhuǎn)框架(110)關(guān)于樞軸(108)轉(zhuǎn)動(dòng)。

18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，其中，繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的所述旋轉(zhuǎn)框架(110)周期性地來(lái)回平移所述焦斑。