[發明專利]用于EUV微光刻的照明光學部件

有效

• 申請號: 200980143184.4
• 申請日: 2009-07-14
• 公開（公告）號: CN102203675A
• 公開（公告）日: 2011-09-28
• 發明（設計）人: 岡瑟·登格爾;杰羅·威蒂克;烏多·丁格;拉爾夫·施圖茨爾;馬丁·恩德雷斯;詹斯·奧斯曼;伯恩特·沃姆
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 邱軍

1.一種用于EUV微光刻的照明光學部件(26；38；47)，用于借助EUV所使用輻射束(3)，在物場(19)的位置照明物(18)，

-包括照明強度預設裝置(6)和照明角度預設裝置(10)，以物場內預設的強度分布和預設的照明角度分布照明所述物場(19)，且

-包括用于校正至少一個下列照明參數的照明校正裝置

--物場照明的強度分布，

--物場照明的角度分布，

其中所述照明校正裝置包括：

-光闌布置(24；73)，其被布置于物場平面(17)或是與其共軛的平面的區域內，且具有多個指狀光闌(27；74)，所述指狀光闌可被沿位移方向(y)位移，所述物(18)在所述投射曝光期間沿所述位移方向位移，

-至少一個檢測器(28；46；50，53；75，76，77，78)，測量·EUV所使用輻射束(3)在所述物場(19)的區域內的位置，

-至少一個分析裝置(31)，其信號連接到所述檢測器(28；46；50，53；75，76，77，78)，分析所述檢測器的數據，并將所述檢測器的數據轉換為控制信號，和

-至少一個致動器(32；61，62，62a)，其信號連接到所述分析裝置(31)，以變化所述EUV所使用輻射束(3)和所述光闌布置(24，73)之間的相對位置，

所述照明校正裝置被設計成在照明期間，確保所述所使用輻射束(3)的邊緣朝向所述指狀光闌(27；74)、垂直于所述所使用輻射束(3)的光束方向的最大位移為8μm。

2.如權利要求1所述的照明光學部件，其中所述照明校正裝置被設計成所述致動器(32；61，62，62a)實現所述光闌布置(24，73)的位移并由此導致所述EUV所使用輻射束(3)和所述光闌布置(24，73)之間的相對位置的變化。

3.如權利要求1或2所述的照明光學部件，其中所述照明校正裝置的至少一個檢測器(75，76)被布置于指狀光闌(27；74)面向所述所使用輻射束(3)的端部。

4.如權利要求1-3中任意一項所述的照明光學部件，其中

-所述指狀光闌(27；74)被設計為橫向(x)于所述位移方向(y)彼此相鄰，且作為整體完全覆蓋橫向于所述位移方向(y)的物場維度(x)。

5.如權利要求1-4中任意一項所述的照明光學部件，其中所述照明校正裝置被設計成使得所述致動器(32；61，62，62a)實現至少一個EUV校正反射鏡(6；13；6、10；10，13)的位移，且由此導致所述EUV所使用輻射束(3)和所述光闌布置(24，73)之間的所述相對位置的變化。

6.如權利要求5所述的照明光學部件，其中所述EUV校正反射鏡(6，13；6，10；10，13)可通過以至少兩個自由度的驅動而被位移。

7.如權利要求5-6中任意一項所述的照明光學部件，其中所述校正反射鏡(6，10，13)可通過經由至少兩個壓電致動器(64；70)或經由至少兩個洛倫茲致動器的驅動而被位移。

8.如權利要求5-8中任意一項所述的照明光學部件，其中所述EUV校正反射鏡(6)具有三個致動器(70)，所述致動器被布置為沿周向分布，且經由所述致動器，所述EUV校正反射鏡(6)可繞垂直于其光學表面的軸(67)樞轉。

9.如權利要求7或8所述的照明光學部件，其中壓電致動器(64；70)分別具有多個由壓電活性材料制成的堆疊的獨立板。

10.如權利要求4至9中任意一項所述的照明光學部件，其中恰好兩個EUV校正反射鏡(6，13；6，10；10，13)可通過以至少兩個自由度的驅動而被位移。

11.如權利要求5至10中任意一項所述的照明光學部件，其中用來預設所述照明角度的所述照明光學部件的光瞳分面鏡(10)被設計為EUV校正反射鏡。

12.如權利要求5至11中任意一項所述的照明光學部件，其中被布置在所述照明強度預設裝置(6)和所述照明角度預設裝置(10)下游，而布置在所述物場(19)上游的EUV反射鏡(13)被設計成EUV校正反射鏡。