[發明專利]通過圖像分析計算合金夾雜物

有效

• 申請號: 200980142940.1
• 申請日: 2009-10-27
• 公開（公告）號: CN102203591A
• 公開（公告）日: 2011-09-28
• 發明（設計）人: 威廉姆·別亞;瑪麗·庫歐科;瑪麗-諾艾爾·黑納德;比阿特麗斯·佩爾蒂埃
• 申請（專利權）人: 斯奈克瑪
• 主分類號: G01N23/22
• 分類號: G01N23/22;G01N33/20;G06T7/00;H01J37/22;G01N23/225
• 代理公司: 中國商標專利事務所有限公司 11234
• 代理人: 萬學堂;周偉明

1.一種通過圖像分析來計算和分析在一合金中的夾雜物的方法，其特征在于，該方法包括：

a)制備所述合金的樣本；

b)通過放大地觀察所述樣本的至少一個區域而確定夾雜物檢測閾值；

c)基于在步驟b)中所限定的閾值檢測所述樣本的夾雜物，并計算所述夾雜物；

d)獲取在步驟c)中檢測到的各夾雜物的圖像，并確定各夾雜物的尺寸；

e)通過對每個檢測的夾雜物進行化學分析，確定每個所檢測夾雜物的化學成分；和

f)通過在步驟d)中獲取的圖像形成所述樣本的地圖，所述地圖顯示出該夾雜物的空間分布，其中各所述檢測到的夾雜物由圖形元素表示，所述圖形元素的尺寸與所述夾雜物的尺寸成比例，圖形元素的顏色與所述夾雜物的化學成分相關聯。

2.根據權利要求1所述的計算和分析夾雜物的方法，其特征在于，在步驟b)中，所述檢測閾值包括：夾雜物的最小尺寸、夾雜物中至少一種化學元素的最小濃度。

3.根據權利要求1或2所述的計算和分析夾雜物的方法，其特征在于，在步驟f)之后，包括以下步驟：

g)使用在步驟f)中形成的所檢測夾雜物的地圖，基于至少一個預定標準分析所述樣本。

4.根據權利要求3所述的計算和分析夾雜物的方法，其特征在于，每個標準選自以下中的至少一種：所述夾雜物的分布、各夾雜物的尺寸和單位面積夾雜物的數量。

5.根據權利要求1至4中任何一項所述的計算和分析夾雜物的方法，其特征在于，所述合金選自：碳鋼、鎳基合金、鈷基合金和通過粉末冶金生產的合金。

6.一種用于計算和分析一合金中的夾雜物的系統，其特征在于，該系統包括：

顯微鏡；

第一工具，其適于控制所述顯微鏡，用于基于檢測閾值檢測所述合金樣本中存在的夾雜物，并計算所述夾雜物；

化學分析設備，其適于獲得來自各夾雜物的化學數據；

第二工具，其適于獲取各夾雜物的圖像，并控制所述化學分析設備，以通過所述化學數據確定所述夾雜物的化學成分；

第三工具，其適于形成所述樣本的地圖，所述地圖顯示出所述夾雜物的空間分布，其中各所述檢測到的夾雜物由圖形元素表示，所述圖形元素的尺寸與所述夾雜物的尺寸成比例，所述圖形元素的顏色與所述夾雜物的化學成分相關聯；和

用于顯示所述地圖的裝置。

7.根據權利要求6所述的系統，其特征在于，所述檢測閾值包括：夾雜物的最小尺寸；夾雜物中至少一種化學元素的最小濃度。

8.根據權利要求6或7所述的系統，其特征在于，所述顯微鏡是掃描電子顯微鏡，所述化學分析設備是能量分散微分析系統。