[發明專利]用于組裝氣化反應器噴射裝置的方法和設備

有效

• 申請號: 200980142425.3
• 申請日: 2009-07-20
• 公開（公告）號: CN102203221A
• 公開（公告）日: 2011-09-28
• 發明（設計）人: P·薩克;A·馬宗達;D·米斯特里
• 申請（專利權）人: 通用電氣公司
• 主分類號: C10J3/30
• 分類號: C10J3/30;C10J3/50
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 陳江雄;譚祐祥

1.一種組裝氣化反應器的方法，所述方法包括：

延伸至少一個反應物噴射構件到氣化反應器內；以及

延伸至少一個流體噴射管道到所述氣化反應器內，所述流體噴射管道包括限定于其中的多個流體噴射通路，其中所述至少一個流體噴射管道的至少一部分圍繞所述至少一個反應物噴射構件的至少一部分。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，延伸至少一個反應物噴射構件到所述氣化反應器內包括：

將所述至少一個反應物噴射構件聯接到至少一個反應物源；以及

將所述至少一個反應物噴射構件定向成噴射至少一種反應物到所述氣化反應器內。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于還包括將至少一個冷卻劑管道聯接至所述至少一個反應物噴射構件，其中所述至少一個冷卻劑管道被配置成供應冷卻劑到所述至少一個反應物噴射構件以便于從所述至少一個反應物噴射構件移除熱。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于還包括：

將凸緣聯接到所述至少一個反應物噴射構件；以及

將所述至少一個流體噴射管道聯接到所述凸緣，從而便于至少部分地屏蔽所述凸緣，隔開所述凸緣附近的所述氣化反應器內的環境的至少一部分。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于還包括將至少一個流體噴射管道聯接到下面中的至少一個：

所述至少一個冷卻劑管道的至少一部分，從而便于至少部分地屏蔽所述反應物噴射構件的至少一部分，隔開所述反應物噴射構件附近的所述氣化反應器內的環境的至少一部分；

所述反應噴射構件的至少一部分，從而便于至少部分地屏蔽所述反應物噴射構件的至少一部分，隔開所述反應物噴射構件附近的所述氣化反應器內的環境的至少一部分；以及

所述反應噴射構件的至少一部分，從而便于至少部分地屏蔽所述凸緣的至少一部分，隔開所述凸緣附近的所述氣化反應器內的環境的至少一部分。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，延伸至少一個流體噴射管道包括將所述至少一個流體噴射管道聯接到流體源使得限定于所述至少一個流體噴射管道內的多個流體噴射通路中的每一個便于以下列至少一個參數將流體噴射到所述氣化反應器內：

預定流體噴射速度；

預定流體流率；以及

預定流體空間分布。

7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，延伸至少一個流體噴射管道包括將所述至少一個流體噴射管道聯接到流體源，使得限定于所述至少一個流體噴射管道內的多個流體噴射通路中的每一個便于下列中的至少一個：

在所述至少一個反應物噴射構件的附近控制所述氣化反應器的一部分的溫度；

控制所述氣化反應器內的反應物動力學；以及

控制所述氣化反應器內的反應物再循環模式。

8.一種噴射裝置，包括：

至少一個反應物噴射構件，其延伸到氣化反應器內；以及

至少一個流體噴射管道，其延伸到所述氣化反應器內，所述至少一個流體噴射管道的至少一部分圍繞所述至少一個反應物噴射構件的至少一部分，所述至少一個流體噴射管道包括限定于其中的多個流體噴射通路。

9.根據權利要求8所述的噴射裝置，其特征在于，所述至少一個反應物噴射構件被配置成將至少一種反應物噴射到所述氣化反應器內。

10.根據權利要求8所述的噴射裝置，其特征在于還包括聯接到所述至少一個反應物噴射構件的至少一個冷卻劑管道，所述至少一個冷卻劑管道便于從所述至少一個反應物噴射構件移除熱。

11.根據權利要求10所述的噴射裝置，其特征在于，所述至少一個反應物噴射構件從聯接到所述氣化反應器的凸緣延伸，所述至少一個流體噴射管道便于至少部分地屏蔽所述凸緣，隔開所述凸緣附近的所述氣化反應器內的環境的至少一部分。