[發明專利]使用近紅外光譜預測烴工藝流穩定性的方法

有效

• 申請號: 200980142418.3
• 申請日: 2009-10-20
• 公開（公告）號: CN102187202A
• 公開（公告）日: 2011-09-14
• 發明（設計）人: R·薩普
• 申請（專利權）人: 納爾科公司
• 主分類號: G01N21/35
• 分類號: G01N21/35;G01N33/28
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 李玲

1.一種使用近紅外光譜和相關性模型的組合預測烴工藝流中的穩定性的方法，所述方法包括：

(a)測量對應于來自所述烴工藝流的多個樣本的每一個的穩定性值以產生第一數據集合；

(b)在所述近紅外光譜中選擇一個或多個波數作為第一光譜；

(c)使用所述第一光譜確定對應于來自步驟(a)的所述多個樣本的每一個的吸收率以產生第二數據集合；

(d)將所述第一數據集合和所述第二數據集合結合進至少一個數學函數以創建所述相關性模型；

(e)在所述近紅外光譜中選擇一個或多個波數作為第二光譜；

(f)使用所述第二光譜測量對應于一個或多個附加樣本的吸收率；

(g)通過將來自步驟(f)的所測量吸收率用作所述相關性模型的輸入并接收輸出作為預測的穩定性，從而計算對應于所述附加(多個)樣本的預測的穩定性值；以及

(h)任選地將所接收的輸出存儲在電子存儲裝置中，和/或在顯示裝置上顯示所接收的輸出。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，包括基于所述第一數據集合和/或所述第二數據集合對所述多個樣本進行分類。

3.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一光譜和所述第二光譜至少部分地重迭。

4.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一光譜和所述第二光譜相同。

5.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一光譜和/或所述第二光譜具有從約7,500cm^-1至約4,000cm^-1的波數。

6.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述穩定性和所預測穩定性基于所述烴工藝流中的瀝青質和/或含瀝青質的殘渣。

7.如權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟(a)中的所述多個樣本的每一個來自同一烴工藝流。

8.如權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟(a)中的所述多個樣本的一個或多個來自不同烴工藝流，各所述流是同一類型。

9.如權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟(a)的所述多個樣本的一個或多個來自從以下組選擇的工藝流，所述組包括：未裂解的烴工藝流以及裂解的烴工藝流。

10.如權利要求1所述的方法，其特征在于，包括測量來自多個不同烴工藝流的多個樣本以匯編所述第一數據集合和所述第二數據集合。

11.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述相關性模型選自以下組，所述組包括：線性回歸分析；非線性回歸分析；以及神經網絡分析。

12.如權利要求1所述的方法，其特征在于，包括在網絡上運行所述方法。

13.如權利要求12所述的方法，其特征在于，所述網絡是因特網。

14.一種數字存儲介質，其上存儲有計算機可執行指令，所述指令用于執行如權利要求1所述的方法。

15.一種使用近紅外光譜和相關性模型的組合預測烴工藝流中的穩定性的方法，所述方法包括：

(a)將所述烴工藝流分類為多個不同工藝；

(b)選擇所述工藝之一；

(c)測量對應于來自所述工藝之一的多個樣本的每一個的穩定性值以產生第一數據集合；

(d)在所述近紅外光譜中選擇一個或多個波數作為第一光譜；

(e)使用所述第一光譜確定對應于來自步驟(a)的所述多個樣本的每一個的吸收率以產生第二數據集合；

(f)將所述第一數據集合和所述第二數據集合結合進至少一個數學函數以創建所述相關性模型；

(g)在所述近紅外光譜中選擇一個或多個波數作為第二光譜；

(h)使用所述第二光譜測量對應于一個或多個附加樣本的吸收率；

(i)通過將來自步驟(f)的所測量吸收率用作所述相關性模型的輸入并接收輸出作為預測的本征穩定性，從而計算對應于所述附加(多個)樣本的預測的穩定性值；以及

(j)任選地將所接收的輸出存儲在電子存儲裝置中，和/或在顯示裝置上顯示所接收的輸出。