[發(fā)明專利]真空處理裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200980142356.6 | 申請日: | 2009-10-19 |
| 公開(公告)號: | CN102203315A | 公開(公告)日: | 2011-09-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 查爾斯·E·金 | 申請(專利權(quán))人: | P2I有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/56 | 分類號: | C23C14/56;B01J3/00;A43B1/00;H01J37/32 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利代理有限公司 44202 | 代理人: | 王基才 |
| 地址: | 英國牛津郡艾*** | 國省代碼: | 英國;GB |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 真空 處理 裝置 | ||
1.一種用于真空處理物品的裝置,其包括:
通道,用于在環(huán)境壓力下在裝載區(qū)接收至少一個(gè)載體,載體具有至少一個(gè)密封裝置,至少一個(gè)密封裝置在使用時(shí)定義一個(gè)中間空腔,中間空腔中收容有一個(gè)或多個(gè)用于處理的物品;
定義于通道中的處理區(qū),處理區(qū)的壓力低于或高于環(huán)境壓力;
用于使載體沿著通道從裝載區(qū)向處理區(qū)和出口區(qū)移動的裝置;以及
至少一個(gè)泵或壓差裝置,其在使用時(shí)與通道連通,可降低或增加位于裝載區(qū)和處理區(qū)之間的通道中的載體的內(nèi)部壓力,增加或降低位于處理區(qū)和出口區(qū)之間的通道中的載體的內(nèi)部壓力。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于:通道的橫截面與載體的橫截面相適配。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的裝置,其特征在于:密封裝置由圍繞載體的第一端和第二端延伸的可變形法蘭部形成,使用時(shí),法蘭兩側(cè)形成壓差。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的裝置,其特征在于:密封裝置由圍繞載體的第一端和第二端延伸的氣動U型、T型或V型密封形成,使用時(shí),法蘭兩側(cè)形成壓差。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置,其特征在于:密封裝置呈圓盤形,以與具有圓形橫截面的通道相適配。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于:密封裝置包括位于兩個(gè)平面圓盤之間的柔性材料,柔性材料的環(huán)面外露。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于:密封裝置包括與聚四氟乙烯等含氟聚合物或二氧化鉬混合或?qū)訅旱娜嵝圆牧希詼p小密封裝置和內(nèi)壁之間的摩擦,且在使用時(shí)維持氣密密封或接近氣密密封。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置,其特征在于:密封裝置通過一個(gè)柔性惰性蓋體與處理環(huán)境隔離,以通過密封材料減少處理污染,且在使用時(shí)允許密封裝置維持氣密密封或接近氣密密封。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的裝置,其特征在于:通道的內(nèi)壁光滑且經(jīng)拋光。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置,其特征在于:內(nèi)壁上涂覆有聚四氟乙烯,以減少密封裝置和內(nèi)壁之間的摩擦,且在使用時(shí)維持氣密密封或接近氣密密封。
11.一種用于真空處理物品的裝置,其包括:
處理區(qū),物品可在處理區(qū)中在處理壓力下被真空處理;
裝載區(qū),物品可在裝載區(qū)中在環(huán)境壓力下裝入裝置中;
若干個(gè)載體,用于將物品從裝載區(qū)沿著封閉的通道轉(zhuǎn)移到處理區(qū),以對物品進(jìn)行真空處理;
其中,載體設(shè)有在載體沿著通道轉(zhuǎn)移物品時(shí)密封通道內(nèi)表面的密封裝置,密封裝置阻止氣體或蒸汽從裝載區(qū)沿著通道流向處理區(qū)并通過密封裝置,以使得在環(huán)境壓力下在裝載區(qū)裝載并被轉(zhuǎn)移到處理區(qū)的物品可以在處理壓力下進(jìn)行真空處理。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的裝置,其特征在于:進(jìn)一步包括驅(qū)動載體沿著通道移動的傳動裝置。
13.根據(jù)權(quán)利要求1至12中任一項(xiàng)所述的裝置,其特征在于:閥門間隔分布在通道的內(nèi)壁上并與泵連接,以降低由載體的密封裝置和通道的內(nèi)壁定義的空腔中的壓力。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的裝置,其特征在于:閥門間隔分布在通道的內(nèi)壁上,并根據(jù)控制信號開啟和關(guān)閉。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的裝置,其特征在于:進(jìn)一步包括控制裝置,以同時(shí)驅(qū)動泵和/或閥門與轉(zhuǎn)移載體的裝置,當(dāng)一個(gè)或多個(gè)載體從第一位置轉(zhuǎn)移到第二位置時(shí),泵和/或閥門通電,以至少維持載體內(nèi)的位置(由通道內(nèi)壁和載體的密封裝置之間的空間定義)相對于載體外的位置的壓差。
16.根據(jù)權(quán)利要求1至15中任一項(xiàng)所述的裝置,其特征在于:處理區(qū)為等離子處理區(qū)。
17.根據(jù)權(quán)利要求1至14中任一項(xiàng)所述的裝置,其特征在于:處理區(qū)為真空沉積區(qū)。
18.根據(jù)權(quán)利要求1至14中任一項(xiàng)所述的裝置,其特征在于:處理區(qū)為干燥區(qū)。
19.根據(jù)權(quán)利要求1至14中任一項(xiàng)所述的裝置,其特征在于:處理區(qū)包括注入干燥區(qū)。
20.根據(jù)權(quán)利要求1至14中任一項(xiàng)所述的裝置,其特征在于:處理區(qū)為冷凍干燥區(qū)。
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C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





