[發明專利]圖像形成用下層膜有效
| 申請號: | 200980141975.3 | 申請日: | 2009-10-21 |
| 公開(公告)號: | CN102197489A | 公開(公告)日: | 2011-09-21 |
| 發明(設計)人: | 前田真一;小野豪;南悟志 | 申請(專利權)人: | 日產化學工業株式會社 |
| 主分類號: | H01L29/786 | 分類號: | H01L29/786;C08G73/10;G03F7/004;H01L21/288;H01L21/312;H01L21/3205;H01L21/336;H01L51/05;H01L51/30 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務所 11247 | 代理人: | 段承恩;陳海紅 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 圖像 形成 下層 | ||
1.一種圖像形成用下層膜,其特征在于,含有包含下述式(1)所示的重復結構的聚酰亞胺前體或該聚酰亞胺前體脫水閉環獲得的聚酰亞胺,
式中,A表示4價的有機基團,B表示下述式(2)或式(3)所示的2價的結構,R1、R2分別獨立地表示氫原子或1價的有機基團,n表示自然數,
式中,X表示單鍵或碳原子數6~20的2價的芳香族基,Y表示單鍵、-O-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-CH2O-、-CH2COO-或-CH2CH2COO-,Z表示可以被氟原子取代的碳原子數3~26的脂肪族烴基,R分別獨立地表示氟原子、碳原子數1~3的烷氧基或碳原子數1~3的烷基,t表示0~3的整數。
2.一種圖像形成用下層膜,其特征在于,含有下述聚酰亞胺前體、或該聚酰亞胺前體脫水閉環獲得的聚酰亞胺,其中所述聚酰亞胺前體是包含下述式(6)所示的四羧酸二酐的四羧酸二酐成分與包含式(7)所示的二胺的二胺成分反應獲得的,
H2N-B-NH2(7)
式中,A表示4價的有機基團,B表示式(2)或式(3)所示的2價的結構,
式中,X表示單鍵或碳原子數6~20的2價的芳香族基,Y表示單鍵、-O-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-CH2O-、-CH2COO-或-CH2CH2COO-,Z表示可以被氟原子取代的碳原子數3~26的脂肪族烴基,R分別獨立地表示氟原子、碳原子數1~3的烷氧基或碳原子數1~3的烷基,t表示0~3的整數。
3.根據權利要求1或2所述的圖像形成用下層膜,式(2)或式(3)的Z表示任意的氫原子被氟原子取代的碳原子數3~26的脂肪族烴基。
4.根據權利要求1~3所述的圖像形成用下層膜,A表示具有脂肪族環或僅由脂肪族基構成的4價的有機基團。
5.根據權利要求1~4的任一項所述的圖像形成用下層膜,B表示式(2)所示的2價的結構。
6.根據權利要求1~5的任一項所述的圖像形成用下層膜,X和Y表示單鍵。
7.一種有機晶體管,具有權利要求1~6的任一項所述的圖像形成用下層膜。
8.下述式(14)或下述式(15)所示的二胺化合物,
式中,X表示單鍵或碳原子數6~20的2價的芳香族基,Y表示單鍵、-O-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-CH2O-、-CH2COO-或-CH2CH2COO-,Z表示任意的氫原子被氟原子取代的碳原子數3~26的脂肪族烴基,R分別獨立地表示氟原子、碳原子數1~3的烷氧基或碳原子數1~3的烷基,t表示0~3的整數。
9.含有下述式(1)所示的重復單元的聚酰亞胺前體或該聚酰亞胺前體脫水閉環獲得的聚酰亞胺,
式中,A表示4價的有機基團,B表示下述式(2a)或式(3a)所示的2價的結構,R1、R2分別獨立地表示氫原子或1價的有機基團,n表示自然數,
式中,X表示單鍵或碳原子數6~20的2價的芳香族基,Y表示單鍵、-O-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-CH2O-、-CH2COO-或-CH2CH2COO-,Z表示任意的氫原子被氟原子取代的碳原子數3~26的脂肪族烴基,R分別獨立地表示氟原子、碳原子數1~3的烷氧基或碳原子數1~3的烷基,t表示0~3的整數。
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