[發(fā)明專利]銅清潔及保護(hù)調(diào)配物有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200980141809.3 | 申請日: | 2009-10-20 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102197124A | 公開(公告)日: | 2011-09-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 杰弗里·A·巴尼斯;布萊恩·貝納科;卡爾·E·博格斯;豐琳;劉俊;梅里薩·A·佩特魯斯卡;顏曉冬;張鵬 | 申請(專利權(quán))人: | 高級(jí)技術(shù)材料公司 |
| 主分類號(hào): | C11D1/62 | 分類號(hào): | C11D1/62 |
| 代理公司: | 中原信達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219 | 代理人: | 劉慧;楊青 |
| 地址: | 美國康*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 清潔 保護(hù) 調(diào)配 | ||
1.清潔組合物,其包含至少一種溶劑、至少一種腐蝕抑制劑、至少一種胺及至少一種季堿,其中該腐蝕抑制劑包括選自以下的物質(zhì):核糖基嘌呤及其甲基化或脫氧衍生物;腺苷及腺苷衍生物的降解產(chǎn)物;嘌呤-糖復(fù)合物;甲基化或脫氧嘌呤衍生物、及其反應(yīng)或降解產(chǎn)物;及其組合。
2.如權(quán)利要求1的清潔組合物,其中該至少一種腐蝕抑制劑包括選自以下的物質(zhì):N-核糖基嘌呤、腺苷、鳥苷、2-氨基嘌呤核糖苷、2-甲氧基腺苷、N-甲基腺苷、N,N-二甲基腺苷、三甲基化腺苷、三甲基N-甲基腺苷、C-4′-甲基腺苷、3-脫氧腺苷;腺嘌呤、甲基化腺嘌呤、二甲基化腺嘌呤、N4,N4-二甲基嘧啶-4,5,6-三胺、4,5,6-三氨基嘧啶、尿囊素、羥基化C-O-O-C二聚體、C-C橋聯(lián)二聚體、核糖、甲基化核糖、四甲基化核糖、木糖、葡萄糖、嘌呤、鳥嘌呤、次黃嘌呤、黃嘌呤、可可堿、咖啡因、尿酸、異鳥嘌呤、三氨基嘧啶、經(jīng)氨基取代的嘧啶、及其組合。
3.如權(quán)利要求1的清潔組合物,其中該至少一種腐蝕抑制劑包括選自以下的物質(zhì):腺苷、腺苷降解產(chǎn)物、及其衍生物。
4.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的清潔組合物,其中該溶劑包括水。
5.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的清潔組合物,其進(jìn)一步包含殘留物及污染物,其中該殘留物包括CMP后殘留物、蝕刻后殘留物、灰化后殘留物、或其組合。
6.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的清潔組合物,其中該組合物以約5∶1至約200∶1的范圍被稀釋。
7.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的清潔組合物,其中該組合物實(shí)質(zhì)上不含至少一種以下物質(zhì):氧化劑、含氟化物的來源、研磨材料、在分子中含有醚鍵的醇、烷基吡咯烷酮、表面相互作用增強(qiáng)劑、堿金屬及堿土金屬堿、糖醇、腐蝕抑制金屬鹵化物及其組合,且其中該清潔組合物不會(huì)固化形成聚合物固體。
8.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的清潔組合物,其中該胺包括選自以下的至少一種物質(zhì):氨基乙基乙醇胺、N-甲基氨基乙醇、氨基乙氧基乙醇、二甲基氨基乙氧基乙醇、二乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、單乙醇胺、三乙醇胺、1-氨基-2-丙醇、2-氨基-1-丁醇、異丁醇胺、三亞乙基二胺、其它C1-C8烷醇胺、四亞乙基五胺(TEPA)、4-(2-羥乙基)嗎啉(HEM)、N-氨基乙基哌嗪(N-AEP)、乙二胺四乙酸(EDTA)、1,2-環(huán)己二胺-N,N,N′,N′-四乙酸(CDTA)、甘氨酸/抗壞血酸、亞氨基二乙酸(IDA)、2-(羥乙基)亞氨基二乙酸(HIDA)、次氮基三乙酸、硫脲、1,1,3,3-四甲基脲、尿素、尿素衍生物、尿酸、甘氨酸、丙氨酸、精氨酸、天冬酰胺、天冬氨酸、半胱氨酸、谷氨酸、谷氨酰胺、組氨酸、異亮氨酸、亮氨酸、賴氨酸、甲硫氨酸、苯丙氨酸、脯氨酸、絲氨酸、蘇氨酸、色氨酸、酪氨酸、纈氨酸、1-甲氧基-2-氨基乙烷、及其組合,及
其中該至少一種季堿由式NR1R2R3R4OH表示,其中R1、R2、R3及R4彼此可相同或不同且選自下組:氫、直鏈C1-C6烷基、支鏈C1-C6烷基、經(jīng)取代的C6-C10芳基及未經(jīng)取代的C6-C10芳基。
9.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的清潔組合物,其進(jìn)一步包含至少一種選自以下的額外組分:至少一種還原劑、至少一種復(fù)合劑、至少一種補(bǔ)充腐蝕抑制劑、至少一種醇、至少一種表面活性劑、及NR1R2R3R4OH,其中R1、R2、R3及R4彼此可相同或不同且選自下組:氫、甲基及乙基,前提條件為R1、R2、R3及R4中至少之一必須為氫。
10.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的清潔組合物,其進(jìn)一步包含至少一種還原劑。
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