[發(fā)明專利]感光性樹脂組合物、二氧化硅系覆膜的形成方法以及具有二氧化硅系覆膜的裝置和部件

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200980141722.6
• 申請(qǐng)日: 2009-03-16
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102187278A
• 公開(kāi)（公告）日: 2011-09-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 青木陽(yáng)介;阿部浩一;粕谷圭
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 日立化成工業(yè)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F7/075
• 分類號(hào): G03F7/075;C08G77/14;G03F7/004;G03F7/023;G03F7/40;H01L21/027
• 代理公司: 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 金鮮英;劉強(qiáng)

1.一種感光性樹脂組合物，其含有：

(a)成分：由包含下述通式(1)所表示的化合物的第1硅烷化合物水解縮合而得的第1硅氧烷樹脂、

(b)成分：溶解所述(a)成分的溶劑、和

(c)成分：酚類和二疊氮基萘醌磺酸的酯或醇類和二疊氮基萘醌磺酸的酯；

式(1)中，R¹表示有機(jī)基團(tuán)，A表示2價(jià)的有機(jī)基團(tuán)，X表示水解性基團(tuán)，同一分子內(nèi)的多個(gè)X可以相同，也可以不同。

2.如權(quán)利要求1所述的感光性樹脂組合物，其中所述(c)成分包含酚類和二疊氮基萘醌磺酸的酯或具有一個(gè)以上芳基的醇類和二疊氮基萘醌磺酸的酯。

3.如權(quán)利要求1或2所述的感光性樹脂組合物，其進(jìn)一步含有：

(d)成分：由不包含所述通式(1)所表示的化合物、但包含下述通式(2)所表示的化合物的第2硅烷化合物水解縮合而得的第2硅氧烷樹脂；

R²_nSiX_4-n????(2)

式(2)中，R²表示H原子或有機(jī)基團(tuán)，X表示水解性基團(tuán)，n表示0～3的整數(shù)，當(dāng)n為2以下時(shí)，同一分子內(nèi)的多個(gè)X可以相同，也可以不同，當(dāng)n為2或3時(shí)，同一分子內(nèi)的多個(gè)R²可以相同，也可以不同。

4.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的感光性樹脂組合物，其中所述第1硅烷化合物進(jìn)一步包含下述通式(3)所表示的化合物；

R³SiX₃????(3)

式(3)中，R³表示有機(jī)基團(tuán)，X表示水解性基團(tuán)，同一分子內(nèi)的多個(gè)X可以相同，也可以不同。

5.如權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的感光性樹脂組合物，其中所述(b)成分包含選自醚乙酸酯系溶劑、醚系溶劑、酯系溶劑、醇系溶劑和酮系溶劑中的至少一種溶劑。

6.一種二氧化硅系覆膜的形成方法，其含有：

將權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)所述的感光性樹脂組合物涂布在基板上并干燥，得到涂膜的涂布工序、

對(duì)所述涂膜的規(guī)定部分進(jìn)行曝光的第1曝光工序、

除去所述涂膜的曝光的所述規(guī)定部分的除去工序、和

對(duì)除去了所述規(guī)定部分的涂膜進(jìn)行加熱的加熱工序。

7.一種二氧化硅系覆膜的形成方法，其含有：

將權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)所述的感光性樹脂組合物涂布在基板上并干燥，得到涂膜的涂布工序、

對(duì)所述涂膜的規(guī)定部分進(jìn)行曝光的第1曝光工序、

除去所述涂膜的曝光的所述規(guī)定部分的除去工序、

對(duì)除去了所述規(guī)定部分的涂膜進(jìn)行曝光的第2曝光工序、和

對(duì)除去了所述規(guī)定部分的涂膜進(jìn)行加熱的加熱工序。

8.一種半導(dǎo)體裝置，其具有基板，和通過(guò)權(quán)利要求6或7所述的形成方法在該基板上所形成的二氧化硅系覆膜。

9.一種平面顯示裝置，其具有基板，和通過(guò)權(quán)利要求6或7所述的形成方法在該基板上所形成的二氧化硅系覆膜。

10.一種電子設(shè)備用部件，其具有基板，和通過(guò)權(quán)利要求6或7所述的形成方法在該基板上所形成的二氧化硅系覆膜。