[發(fā)明專利]半導體器件和這種器件的制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200980141586.0 | 申請日: | 2009-10-06 |
| 公開(公告)號: | CN102187466A | 公開(公告)日: | 2011-09-14 |
| 發(fā)明(設計)人: | 簡·雄斯基;安科·黑林格 | 申請(專利權)人: | NXP股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L29/78 | 分類號: | H01L29/78;H01L29/06;H01L29/423 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 王波波 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體器件 這種 器件 制造 方法 | ||
1.一種半導體器件,包括襯底(40),
所述襯底包括:
摻雜有第一導電類型摻雜劑的第一區(qū)域(18)和第二區(qū)域(16),以及位于所述第一摻雜區(qū)域和所述第二摻雜區(qū)域之間的、摻雜有與第一導電類型相反導電類型摻雜劑的第三區(qū)域(42),所述第三區(qū)域由電介質層(20)覆蓋,
所述襯底(40)還包括在所述第三區(qū)域(42)和所述第二區(qū)域(16)之間橫向延伸的多個溝槽(12),所述溝槽填充有絕緣材料并且具有預定深度,并且通過有源條帶(14)間隔開,所述有源條帶包括深度不超過所述預定深度的摻雜分布,其中每一個溝槽(12)通過襯底部分(26)與所述第三區(qū)域(42)間隔開,使得所述襯底部分(26)和所述溝槽(12)之間的各個邊界沒有由所述電介質層(20)覆蓋。
2.根據(jù)權利要求1所述的半導體器件,其中所述第一區(qū)域包括源極區(qū),所述第二區(qū)域包括漏極區(qū),以及所述第三區(qū)域包括溝道區(qū),其中所述有源條帶(14)和相應的襯底部分(26)共同形成所述溝道區(qū)(42)和所述漏極區(qū)(16)之間的漏極延伸區(qū)。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的半導體器件,其中所述第三區(qū)域(42)和所述邊界之間的距離不超過所述有源條帶(14)的寬度。
4.根據(jù)權利要求1至3中任一項所述的半導體器件,其中有源條帶(14)的寬度不超過對于所述有源條帶(14)的摻雜分布的摻雜濃度的一維耗盡寬度。
5.根據(jù)權利要求1至4中任一項所述的半導體器件,其中所述電介質層(20)包括將所述第三摻雜區(qū)域(42)上的第一層區(qū)域(52)與所述溝槽(12)和有源條帶(41)上的第二層區(qū)域(54)間隔開的孔洞(56),所述孔洞(56)與相應襯底部分(26)和所述溝槽(12)之間的邊界重疊。
6.根據(jù)權利要求1至5中任一項所述的半導體器件,其中所述絕緣材料具有至少為1的介電常數(shù)。
7.根據(jù)權利要求1至6中任一項所述的半導體器件,其中所述有源條帶(14)是錐形的。
8.一種集成電路,包括根據(jù)權利要求1至7中任一項所述的半導體器件。
9.一種制造半導體器件的方法,包括:
分別在襯底(40)中形成摻雜有第一導電類型摻雜劑的第一區(qū)域(18)和第二區(qū)域(42)、以及第三區(qū)域(16),所述第三區(qū)域位于所述第一區(qū)域和所述第二區(qū)域之間、并且摻雜有與第一導電類型相反導電類型的摻雜劑,
在襯底(40)中形成多個在所述第三摻雜區(qū)域(42)和所述第二摻雜區(qū)域(16)之間橫向延伸的溝槽(12),所述溝槽具有預定的深度、并且限定出所述溝槽之間的多個有源條帶(14),每一個所述溝槽(12)通過襯底部分(26)與溝道區(qū)域(42)相間隔開;
用絕緣材料填充所述溝槽(12);
在所述有源條帶(14)中形成相應的摻雜分布,每一個摻雜分布均具有不超過所述預定深度的深度;以及
在所述第三摻雜區(qū)域(42)上形成電介質層(20),使得所述襯底部分(26)和所述溝槽(12)之間的各個邊界沒有由所述電介質層(20)覆蓋。
10.根據(jù)權利要求9所述的方法,其中所述第三摻雜區(qū)域(42)和所述橫向延伸溝槽(12)之間的距離不超過所述有源條帶(14)的寬度。
11.根據(jù)權利要求10所述的方法,其中所述有源條帶(14)的寬度不超過其中摻雜分布的一維耗盡寬度。
12.根據(jù)權利要求9至11中任一項所述的方法,其中形成電介質層(20)的步驟包括形成包括孔洞(56)的電介質層,所述孔洞覆蓋所述襯底部分(26)和所述溝槽(12)之間的各個邊界,所述孔洞將所述第三摻雜區(qū)域(42)上的第一層區(qū)域(52)與所述溝槽(12)和所述有源條帶(14)上的第二層區(qū)域(54)相間隔開。
13.根據(jù)權利要求12所述的方法,其中所述第一層區(qū)域(52)與所述第二層區(qū)域(54)斷開。
14.根據(jù)權利要求9至13中任一項所述的方法,其中所述有源條帶(14)是錐形的。
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H01L29-02 .按其半導體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對一個不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進行控制的
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