[發(fā)明專利]光學(xué)片、面光源裝置及透射式顯示裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200980140617.0
• 申請(qǐng)日: 2009-10-06
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102177447A
• 公開(kāi)（公告）日: 2011-09-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 島田貴之;荒川文裕;后石原聰;小島弘;中村瑠奈;牛山章伸;前西智子;田中和樹(shù);富田晶子
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 大日本印刷株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): G02B5/02
• 分類(lèi)號(hào): G02B5/02;B32B27/18;F21S2/00;F21V5/00;G02B5/04;G02F1/13357;B32B7/02
• 代理公司: 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 何欣亭;王忠忠

1.一種光學(xué)片，其特征在于，包括：

片狀的基部層；

具有在與所述基部層的片面平行的方向上排列的多個(gè)單位形狀單元的光控制層；以及

在所述基部層和所述光控制層之間配置的光擴(kuò)散層，

所述光擴(kuò)散層，具有基料樹(shù)脂部和分散在所述基料樹(shù)脂部中的粒子，

在所述基料樹(shù)脂部中，包含有所述粒子的單體凝聚而成的凝聚體。

2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)片，其特征在于：

光擴(kuò)散層的內(nèi)部擴(kuò)散率為20以上，該光擴(kuò)散層的內(nèi)部擴(kuò)散率為用霧度值表示所述光學(xué)片內(nèi)部的由所述光擴(kuò)散層進(jìn)行的光的擴(kuò)散程度的值。

3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)片，其特征在于：

光擴(kuò)散層的內(nèi)部透射率為70以上，該光擴(kuò)散層的內(nèi)部透射率為以使用0.125mm的光梳時(shí)的圖像清晰度表示透射所述光學(xué)片內(nèi)部的所述光擴(kuò)散層的光的比例程度的值、以使用0.5mm的光梳時(shí)的圖像清晰度表示的值、以使用1.0mm的光梳時(shí)的圖像清晰度表示的值、以及以使用2.0mm的光梳時(shí)的圖像清晰度表示的值之和。

4.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)片，其特征在于：

所述光擴(kuò)散層，以與所述基部層及所述光控制層這兩者鄰接的方式配置在所述基部層及所述光控制層之間；

所述光控制層配置在最靠近出光側(cè)。

5.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)片，其特征在于：

所述光擴(kuò)散層的所述光控制層一側(cè)的面，為粗糙面。

6.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)片，其特征在于：

所述光擴(kuò)散層的所述光控制層一側(cè)的面，作為具有凸部的粗糙面而形成；

所述光擴(kuò)散層的所述基料樹(shù)脂部的折射率，和從所述光控制層的一側(cè)起與該光擴(kuò)散層鄰接的層的折射率不同；

所述凸部的頂部上的曲率半徑的平均值，與由所述凝聚體或所述粒子的單體構(gòu)成且存在于所述光擴(kuò)散層中的粒狀體的半徑的平均值不同。

7.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)片，其特征在于：

所述凸部的頂部上的曲率半徑的平均值，小于所述光擴(kuò)散層中的所述粒狀體的半徑的平均值。

8.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)片，其特征在于：

所述凸部的頂部上的曲率半徑的平均值，大于所述光擴(kuò)散層中的所述粒狀體的半徑的平均值。

9.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)片，其特征在于：

從20℃加熱到80℃時(shí)構(gòu)成所述光擴(kuò)散層的所述基料樹(shù)脂部的材料的線膨脹率相對(duì)于從20℃加熱到80℃時(shí)構(gòu)成所述光控制層的材料的線膨脹率之比，為1500％以下。

10.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)片，其特征在于：

構(gòu)成所述光控制層的材料的玻璃化溫度和構(gòu)成所述光擴(kuò)散層的所述基料樹(shù)脂部的材料的玻璃化溫度之差，在30℃以下。

11.一種面光源裝置，其特征在于，包括：

光源；和

接受來(lái)自所述光源的光的權(quán)利要求1所述的光學(xué)片。

12.如權(quán)利要求11所述的面光源裝置，其特征在于：

以使由所述光控制層的所述單位形狀單元形成的面構(gòu)成發(fā)光面的方式，配置所述光學(xué)片。

13.一種面光源裝置，其特征在于，包括：

具有多個(gè)發(fā)光管的光源；

配置在面對(duì)光源的位置的入光側(cè)光學(xué)片，其是權(quán)利要求1所述的光學(xué)片；以及

配置在所述入光側(cè)光學(xué)片的出光側(cè)的出光側(cè)光學(xué)片，其是權(quán)利要求1所述的光學(xué)片，

所述入光側(cè)光學(xué)片的所述光控制層的所述單位形狀單元，沿著與其排列方向交叉的方向線狀延伸，

所述出光側(cè)光學(xué)片的所述光控制層的所述單位形狀單元，沿著與其排列方向交叉的方向線狀延伸，

所述入光側(cè)光學(xué)片的所述單位形狀單元的排列方向，與所述出光側(cè)光學(xué)片的所述單位形狀單元的排列方向交叉。

14.如權(quán)利要求13所述的面光源裝置，其特征在于：

所述入光側(cè)光學(xué)片的所述單位形狀單元的排列方向，與所述發(fā)光管的排列方向正交；

所述出光側(cè)光學(xué)片的所述單位形狀單元的排列方向，與所述入光側(cè)光學(xué)片的所述單位形狀單元的排列方向正交。