[發明專利]柵格以及制造用于選擇性地透射電磁輻射特別是用于乳房攝影應用的X射線輻射的柵格的方法有效
| 申請號: | 200980140564.2 | 申請日: | 2009-10-07 |
| 公開(公告)號: | CN102187403A | 公開(公告)日: | 2011-09-14 |
| 發明(設計)人: | G·福格特米爾 | 申請(專利權)人: | 皇家飛利浦電子股份有限公司 |
| 主分類號: | G21K1/02 | 分類號: | G21K1/02;B22F3/105 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 王英;劉炳勝 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 柵格 以及 制造 用于 選擇性 透射 電磁輻射 特別是 乳房 攝影 應用 射線 輻射 方法 | ||
1.一種制造用于選擇性地透射電磁輻射的柵格(1)的方法,該方法包括:
提供具有自支撐穩定性的支撐元件(3),其中,所述支撐元件由基本不吸收選擇性地透射通過所述柵格的電磁輻射的材料制成;
在所述支撐元件的表面上施加金屬層(5);以及
用吸收選擇性地透射通過所述柵格的電磁輻射的材料在所述金屬層(5)的表面上構建選擇性透射結構(7),其中,所述透射結構是利用選擇性激光燒結構建的。
2.如權利要求1所述的方法,其中,所述支撐元件(3)的厚度大于所述選擇性透射結構(7)的厚度。
3.如權利要求1或2所述的方法,其中,所述支撐元件(3)的厚度充分大于所述金屬層(5)的厚度。
4.如權利要求1-3中的一項所述的方法,其中,所述金屬層(5)被構造成具有對應于所述選擇性透射結構(7)的覆蓋區的幾何結構。
5.如權利要求1-3中的一項所述的方法,其中,所述金屬層(5)在其幾何結構和厚度方面適于用作蔭罩和濾譜器二者之一。
6.如權利要求4或5所述的方法,其中,構造所述金屬層(5)是利用光刻、局部蝕刻、金屬絲腐蝕和激光燒蝕中的至少一種執行的。
7.如權利要求1-6中的一項所述的方法,其中,所述選擇性透射結構(7)是用鉬、鎢、銅、銀和這些材料的混合物中的至少一種制成的。
8.如權利要求1-7中的一項所述的方法,其中,所述支撐元件(3)是用碳纖維材料制成的。
9.如權利要求1-8中的一項所述的方法,其中,在所述支撐元件(3)與所述金屬層(5)之間插入粘接增強層。
10.如權利要求1-9中的一項所述的方法,其中,所述金屬層(5)是利用蒸發、濺射、化學汽相沉積、物理氣相沉積和膠合中的至少一種施加到所述支撐元件(3)的。
11.如權利要求1-9中的一項所述的方法,其中,所述金屬層(5)被提供為局部蝕刻的金屬箔,其具有所述選擇性透射結構作為覆蓋區的幾何結構。
12.一種用于選擇性地透射電磁輻射的柵格(1),其包括:
具有自支撐穩定性的支撐元件(3),其中,所述支撐元件由基本不吸收選擇性地透射通過所述柵格的電磁輻射的材料制成;
在所述支撐元件(3)的表面上的金屬層(5);以及
在所述金屬層(5)的表面上的選擇性透射結構(7),其具有吸收選擇性地透射通過所述柵格的電磁輻射的材料,其中,所述透射結構(7)是利用選擇性激光燒結構建的。
13.一種醫學成像設備(200、300),其包括如權利要求10所述的柵格(1)。
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